污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
山東立博迪科學(xué)儀器股份有限公司
山東立博迪科學(xué)儀器股份有限公司
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地
聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式
更新時間：2022-09-05 10:33:42瀏覽次數(shù)：180次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線布里奇曼晶體生長爐 - BV-HTRV是根據(jù)布里奇曼方法用于晶體生長的管式爐。
布里奇曼晶體生長爐 - BV-HTRV是根據(jù)布里奇曼方法用于晶體生長的管式爐。
布里奇曼方法是用預(yù)合成材料緩慢地下降，通過一個具有溫度梯度的區(qū)間。被熔化的材料通過一個較低的溫度梯度區(qū)間，形成單晶。BV-HTRV管式爐裝有用于布里奇曼方法的特殊設(shè)計的結(jié)構(gòu)。標(biāo)準(zhǔn)型號，如HTRV 70-250或HTRV 100-250的工作管裝有一個升降裝置上，需要注意的是，所有的管式爐都可以裝這個裝置。見的有兩種爐型，HTRV 70-250和HTRV 100-250。
優(yōu)勢在于加熱區(qū)短，根據(jù)布里奇曼方法，可獲得較理想的溫度梯度。溫度向管式爐底部遞減。拉伸結(jié)構(gòu)向著低溫區(qū)的位移速度可調(diào)。樣品熱電偶緊靠著樣品，能精確了解樣品的溫度。樣品和控溫?zé)犭娕及惭b在升降裝置底部。裝載和卸載時，機(jī)構(gòu)可快速反應(yīng)?；蛘吒鶕?jù)用戶的晶體生長速度移動。
樣品熱電偶和控溫?zé)犭娕荚谔沾晒ぷ鞴芨浇?。工作管兩端是水冷法蘭。工作管上面的法蘭是固定的，底部的螺紋管，連接著工作管和升降裝置。當(dāng)樣品向下移動時，螺紋管開始延伸。即使在真空下，樣品也可以向下移動。
工作管頂部是連接著真空泵。真空閥門可手動開關(guān)。真空度由壓電陶瓷真空計控制。惰性氣體流量由轉(zhuǎn)子流速計手動控制。為了在工藝開始前降低氧含量，需要進(jìn)行反復(fù)多次的預(yù)抽真空和惰性氣體沖刷。
該系統(tǒng)可以連接計算機(jī)，可記錄運行時的所有數(shù)據(jù)。如，樣品位置、熱電偶溫度。裝載和卸載樣品時，夾具必須打開。機(jī)構(gòu)可現(xiàn)實快速移動，樣品方便拿取。升降裝置用于布里奇曼晶體生長，同時可結(jié)合不同的單區(qū)或多區(qū)控溫管式爐。
標(biāo)準(zhǔn)參數(shù)
布里奇曼方法—晶體生長
真空環(huán)境工作溫度1450 °C
惰性氣氛環(huán)境工作溫度1800 °C
拉伸機(jī)構(gòu)精度高
手動操作
可選數(shù)據(jù)記錄功能
技術(shù)參數(shù)
布里奇曼晶體生長爐的加熱元件是二硅化鉬，垂直安裝。矩形爐殼內(nèi)的保溫材料為真空成型的纖維板。爐殼上還有用于同外部對流冷卻的孔?？紤]到樣品的熔點，爐子的溫度有 1600 °C、1700 °C、1800 °C。升降裝置的兩個馬達(dá)，可實現(xiàn)不同的齒輪比。如：可達(dá)到約10 mm/s的移動速度；鑒于布里奇曼生長工藝，拉伸速度僅為0.00001 mm/s (10 nm/s)。
水冷法蘭的水管都套在護(hù)套內(nèi)。控溫?zé)犭娕夹吞枮?span>B型?？筛鶕?jù)要求選配過溫保護(hù)器。推薦安裝過溫保護(hù)器，因為晶體生長工藝時間長，多數(shù)處于無人看守的狀態(tài)。如果布里奇曼晶體生長所需的溫度要高于1800℃，Carbolite Gero可提供合適的解決方案。
BV-HTRV 70-250
Tmax (°C) | 1600, 1700, 1800 |
Max. outer diameter accessory tube (mm) | 100 |
加熱長度 (mm) | 250 |
外部尺寸H x W x d（mm） | 1800 x 950 x 750 |
重量（KG） | 300 |
控制柜尺寸H x W x d（mm） | 850 x 560 x 600 |
控制柜重量（KG） | 60 |
功率 (kW) | 6.5 |
暫無下載資料
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
環(huán)保在線 設(shè)計制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
