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智能過濾型暖通循環(huán)水全程水處理器

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產(chǎn)品型號GDQC-350

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更新時間:2022-11-04 14:59:07瀏覽次數(shù):236次

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詳細(xì)介紹

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反滲透系統(tǒng)需要哪些常用儀表
為了使RO裝置能安全可靠的運行,便于運行過程中監(jiān)控,應(yīng)該裝置必要的儀表和控制裝置,一般需要裝設(shè)的儀表有溫度表、流量表、壓力表、電導(dǎo)率表、氧化電位儀表、氯表、pH表,具體如下:
1.      溫度表:給水溫度表,因產(chǎn)水與溫度有關(guān),所以需要檢測,以便求出標(biāo)準(zhǔn)化后的產(chǎn)水量,大型設(shè)備應(yīng)進(jìn)行記錄,另外,溫度超過45℃會損壞膜元件,所以對原水加熱器系統(tǒng)應(yīng)設(shè)超限警報,超限自動排水和停運RO保護(hù)。
2.      壓力表:給水壓力表、*段RO出水壓力表、排水壓力表用于計算每一段的壓降,并用于對產(chǎn)水量和鹽透過率進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化。鹽透過率、產(chǎn)水量和Δp用于RO性能問題的分析。
5um過濾器要安裝進(jìn)出口壓力表,當(dāng)壓降達(dá)到一定值時,就需要更換濾芯。
給水泵進(jìn)出口壓力表,進(jìn)出口壓力開關(guān)用于在進(jìn)口壓力低時關(guān)泵,在出口壓力高時停泵。
3.      流量表:產(chǎn)品水流量表在運行中檢測產(chǎn)水量,每段應(yīng)單獨裝設(shè),以便于標(biāo)準(zhǔn)化RO性能數(shù)據(jù)。產(chǎn)品水流量應(yīng)有指示,累計和記錄。濃水排水流量表在運行時檢測排水量,應(yīng)有指示累計和記錄。從各段產(chǎn)品流量和排水流量可以算出分段的給水量、回收率和整個RO 的回收率,給水流量表主要用于RO加藥量的自動調(diào)節(jié),除指示累計外還要給與信號用于比例調(diào)節(jié)。
4.      電導(dǎo)率表:給水電導(dǎo)率表、產(chǎn)水電導(dǎo)率表指示、記錄水的電導(dǎo)率:可設(shè)置警報,從給水電導(dǎo)率和產(chǎn)水電導(dǎo)率可以算出脫鹽率。
5.      pH表當(dāng)給水需加酸防止CaCO3形成垢時,加酸后的給水需裝設(shè)pH表。
6.      氯表給水裝設(shè)氯表,控制進(jìn)水氯含量。
7.      氧化電位儀表經(jīng)加亞硫酸氫鈉消除余氯的給水應(yīng)裝設(shè)氧化還原點位表,應(yīng)有指示記錄、超限報警。 

智能過濾型暖通循環(huán)水全程水處理器全程綜合水處理器主要由優(yōu)質(zhì)碳鋼筒體、特殊結(jié)構(gòu)的不銹鋼濾網(wǎng)、高頻電磁場發(fā)生器及排污裝置等組成,自動型(Z)在手動型基礎(chǔ)上增設(shè)了控制單元、傳感器和電動排污裝置,可實現(xiàn)自動化運行,無需人工干預(yù)。自動清洗型(ZS)在自動型的基礎(chǔ)上加裝有自清洗裝置,能夠自行清洗水處理器過濾單元,使得處理器的功能更加完善。

全程綜合水處理器是針對各種循環(huán)水系統(tǒng)中普遍存在的四大問題:腐蝕、結(jié)垢、菌藻、水質(zhì)惡化而研制的綜合型水處理器,由單臺設(shè)備代替需要多臺設(shè)備才能完成的處理過程,從而取代了傳統(tǒng)的處理方式。具有對水質(zhì)綜合優(yōu)化處理,防垢除垢、防腐阻銹、殺菌滅藻、超凈過濾功能。機電一體化的設(shè)計、純物理方式處理,無需化學(xué)藥劑,阻力小、流量大,而且運行費用極低,操作簡單,維護(hù)方便,是各種水系統(tǒng)的理想選擇。

智能過濾型暖通循環(huán)水全程水處理器全程綜合水處理器主要由優(yōu)質(zhì)碳鋼筒體、特殊結(jié)構(gòu)的不銹鋼濾網(wǎng)、高頻電磁場發(fā)生器及排污裝置等組成,自動型(Z)在手動型基礎(chǔ)上增設(shè)了控制單元、傳感器和電動排污裝置,可實現(xiàn)自動化運行,無需人工干預(yù)。自動清洗型(ZS)在自動型的基礎(chǔ)上加裝有自清洗裝置,能夠自行清洗水處理器過濾單元,使得處理器的功能更加完善。

  由高頻發(fā)生器產(chǎn)生高頻電磁場對水進(jìn)行處理,使原有的大締合體狀態(tài)水的結(jié)合鍵被深度打斷,離解成活性很強的單分子或小締合體狀態(tài)的水,從而改變了水的物理結(jié)構(gòu)與特性,增強了水分子的極性,增大了水分子的偶極矩,提高了水分子對鈣鎂離子、碳酸根離子等成垢組份的水合能力,起到防止水垢形成的作用。

高頻電磁場水應(yīng)用于防垢,是由于其存在大量的"離子締合體""顆粒締合體",在水溶液中提供了大量的結(jié)晶核心。結(jié)晶核心越多,生成的結(jié)晶數(shù)量也越多,水垢結(jié)晶的線性尺寸就越小。此外,由于單個或雙氫聯(lián)結(jié)的水分子數(shù)量增多,水分子的活動更"自由",它占據(jù)水溶液的其它空隙,象形成極薄的膜一樣,因而阻礙晶體生長,促使水垢結(jié)晶線性尺寸減小,使水垢呈松軟的細(xì)小顆粒,隨排污水排除。


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