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杭州得聚儀器設(shè)備有限公司
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| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號90L
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地
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更新時間：2022-12-01 16:30:26瀏覽次數(shù)：208次
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HMDS真空烘箱特點：1、烘箱外殼采用不銹鋼SUS304材質(zhì)制造，內(nèi)膽為不銹鋼316L材料制成；加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周，內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置
HMDS真空烘箱特點：
1、烘箱外殼采用不銹鋼SUS304材質(zhì)制造，內(nèi)膽為不銹鋼316L材料制成；加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周，內(nèi)膽內(nèi)無任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、雙層玻璃門觀察工作室內(nèi)物體一目了然。
2、箱門閉合松緊能調(diào)節(jié)，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內(nèi)高真空度。
3、微電腦智能控溫儀，具有設(shè)定，測定溫度雙數(shù)字顯示和PID自整定功能，控溫，可靠。
4、智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序，溫度，真空度及每一程序時間。
5、HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無外漏顧慮。
6、整個系統(tǒng)采用無發(fā)塵材料制造，適用100 級光刻間凈化環(huán)境。
HMDS真空烘箱選配件：
真空泵：德國品牌，萊寶“DC"雙極系列旋片式油泵，極限真空高，噪音低，運行穩(wěn)定。
連接管：不銹鋼波紋管，密封將真空泵與烘箱連接。
HMDS真空烘箱預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
HMDS真空烘箱的原理：
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過對烘箱HMDS預(yù)處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
HMDS真空烘箱的一般工作流程：
先確定烘箱工作溫度。典型的預(yù)處理程序為：打開真空泵抽真空，待腔內(nèi)真空度達到某一高真空度后，開始充人氮氣，充到達到某低真空度后，再次進行抽真空、充入氮氣的過程，到達設(shè)定的充入氮氣次數(shù)后，開始保持一段時間，使硅片充分受熱，減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空，充入HMDS氣體，在到達設(shè)定時間后，停止充入HMDS藥液，進入保持階段，使硅片充分與HMDS反應(yīng)。當達到設(shè)定的保持時間后，再次開始抽真空。充入氮氣，完成整個作業(yè)過程。HMDS與硅片反應(yīng)機理如圖：先加熱到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS與表面的OH一反應(yīng)，在硅片表而生成硅醚，消除氫鍵作，從而使極性表面變成非極性表面。整個反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(三甲基硅烷基較大)阻止其進一步反應(yīng)。
尾氣排放等：多余的HMDS蒸汽（尾氣）將由真空泵抽出，排放到廢氣收集管道。在無
廢氣收集管道時需做專門處理。
HMDS真空烘箱的技術(shù)參數(shù)：
型號 | 90L | 210L |
工作室尺寸（mm） | 450*450*450 | 560*640*600 |
輸入功率 | 2400W | 4000W |
電源電壓 | AC 220V±10%/50Hz±2% | AC 380V±10%/50Hz±2% |
載物托架 | 2塊 | 3塊 |
控溫范圍 | 室溫+10℃-250℃ | |
溫度分辨率 | 0.1℃ | |
溫度波動度 | ±0.5℃ | |
達到真空度 | 133Pa | |
時間單位 | 分鐘 | |
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