污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
上海江丞精密機(jī)械有限公司
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更新時(shí)間:2024-06-21 07:44:58瀏覽次數(shù):110次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線AA-7050原子吸收分光光度計(jì).8燈座自動(dòng)轉(zhuǎn)塔.燃燒頭自動(dòng)升降
AA-7050 原子吸收分光光度計(jì)
. 8燈座自動(dòng)轉(zhuǎn)塔
. 燃燒頭自動(dòng)升降,自動(dòng)調(diào)整火焰高度
. 光控升溫,很大升溫速率3000℃/s
. 石墨爐可視系統(tǒng),大大簡(jiǎn)化了石墨爐方法開(kāi)發(fā)難度
. 石墨爐節(jié)氣模式
. 石墨管溫度校正
. 石墨爐雙內(nèi)氣路,在保護(hù)氣外再增加一路輔助氣,以幫 助樣品灰化,得到更好的結(jié)果
. 智能變頻,軟件可以智能識(shí)別電源頻率,并自動(dòng)匹配到 該頻率工作
應(yīng)用領(lǐng)域
AA-7050 系列原子吸收分光光度計(jì)可廣泛應(yīng)用于冶金、石化、地質(zhì)、醫(yī)學(xué)、環(huán)保、科研、農(nóng)業(yè)(土肥)、疾控、食品、材料科學(xué)、商檢等領(lǐng)域。目前能分析的元素多達(dá) 70 余種,在微量和痕量的元素分析中有很重要的應(yīng)用。
主要特點(diǎn)
的光學(xué)系統(tǒng)
? 光學(xué)系統(tǒng)懸浮設(shè)計(jì),震動(dòng)、環(huán)境溫度變化不影響儀器穩(wěn)定性。
? 國(guó)內(nèi)采用1800條/mm衍射光柵,能量充足,分辨率高。
? 單光束短光程光學(xué)系統(tǒng),對(duì)砷、硒等元素亦有充足能量取得很低的檢出限。
? 精心設(shè)計(jì)的氘燈扣背景技術(shù)和自吸收全波段扣背景技術(shù),校正結(jié)果更準(zhǔn)確。
的集成化設(shè)計(jì)
? 精心的一體設(shè)計(jì),將火焰原子化器、石墨爐以及石墨爐電源全部安裝在
一個(gè)主機(jī)內(nèi),實(shí)現(xiàn)儀器小型化。
? 優(yōu)化的電源技術(shù)延長(zhǎng)燈的使用壽命。
自動(dòng)快速切換
? 便捷的切換式工作臺(tái),二秒實(shí)現(xiàn)火焰/石墨爐自動(dòng)快速切換。
? 光路無(wú)需再調(diào)整。
可靠的安全保護(hù)系統(tǒng)
? 軟件自動(dòng)控制整機(jī)所有參數(shù)條件,具備氣路自動(dòng)保護(hù),實(shí)時(shí)監(jiān)控壓力對(duì)乙炔泄漏、
空氣欠壓、異常滅火等情況具有報(bào)警和斷電、斷氣各種保護(hù)功能,具備液封水位自
動(dòng)監(jiān)控,笑氣保護(hù),石墨爐過(guò)熱保護(hù),冷卻水流量監(jiān)控等安全連鎖功能。
高度自動(dòng)化的數(shù)據(jù)處理工作站
? 友好的操作界面
基于Windows XP操作平臺(tái),多語(yǔ)言支持,如英文、韓文等,能夠快速便捷地得出分析報(bào)告。
? 儀器連接采用網(wǎng)口通訊方式,可遠(yuǎn)程調(diào)入主機(jī)數(shù)據(jù)
? 強(qiáng)大的樣品分析功能及容錯(cuò)處理,靈活修改曲線擬合方程
? 報(bào)告打印功能
靈活的報(bào)告打印功能,根據(jù)用戶設(shè)置選擇不同的打印報(bào)告。
? 數(shù)據(jù)管理功能
實(shí)現(xiàn)對(duì)歷史管理備份功能以及相關(guān)的后續(xù)處理,具有訪問(wèn)控制、權(quán)限分配、審計(jì)追蹤、電子簽名和備份恢復(fù)等功能。
? QA/QC控制功能
系統(tǒng)自動(dòng)判斷分析結(jié)果是否適當(dāng),如果超出范圍則系統(tǒng)自動(dòng)按照設(shè)置需求重新測(cè)量。關(guān)于本系統(tǒng)的QA/QC
功能主要包括:標(biāo)準(zhǔn)偏差(SD)檢測(cè)、相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差(RSD)檢測(cè)、相關(guān)系數(shù)檢測(cè)、QC檢測(cè)、基線漂移(靈敏度修正)檢測(cè)、樣品上限檢測(cè)。
? 儀器控制功能
包括元素?zé)糇詣?dòng)選擇、波長(zhǎng)自動(dòng)掃描、狹縫自動(dòng)切換、燈電流自動(dòng)設(shè)定等。
? 狀態(tài)監(jiān)測(cè)功能
實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)儀器各部件工作狀態(tài)?;鹧娣ǎ?/p>
監(jiān)測(cè)燃燒頭類型(空氣乙炔或笑氣乙炔燃燒頭),監(jiān)測(cè)水封液位,監(jiān)測(cè)燃?xì)?、助燃?xì)忾_(kāi)關(guān)及壓力,監(jiān)測(cè)燃?xì)饬髁?,乙炔漏氣?bào)警等。石墨爐法:過(guò)電流保護(hù),監(jiān)測(cè)水溫、水流量,監(jiān)測(cè)保護(hù)氣壓力等。
? 點(diǎn)燈時(shí)間管理功能
自動(dòng)記錄元素?zé)羰褂脮r(shí)間。
? 石墨爐使用次數(shù)監(jiān)控
技術(shù)指標(biāo)
? 光學(xué)系統(tǒng)
波長(zhǎng)范圍:(190~900)nm 光譜帶寬:(0.1、0.2、0.4、1.0、2.0)nm五檔自動(dòng)切換
單色儀:C-T光柵單色儀 波長(zhǎng)準(zhǔn)確度: ±0.1nm
波長(zhǎng)重復(fù)性: ≤0.05nm 光柵刻線:1800條/mm
閃耀波長(zhǎng):250nm 基線穩(wěn)定性:≤0.003A/30min(動(dòng)態(tài))
分辨率:優(yōu)于0.1nm ≤0.002A/30min(靜態(tài))
? 火焰分析
Cu特征濃度:≤0.02 µg/mL/1% 檢出限:≤0.003 µg/mL
精 密度RSD:≤0.45% 燃燒頭:可配100mm全鈦燃燒頭或50mm不銹鋼燃燒頭
位置調(diào)節(jié):高度、角度調(diào)節(jié),一分鐘內(nèi)完成火焰/氫化物換裝
霧化器:標(biāo)配玻璃霧化器和全鈦金屬霧化器;全鈦金屬霧化器適用于含腐蝕性HF樣品的分析
? 石墨爐分析
Cd特征量:0.3×10-12g 檢出限:0.2×10-12g
溫控范圍:室溫~3000℃ 精 密度RSD:≤1.8%
控溫程序:很大20階升溫程序,階梯、斜坡、 光控升溫速率:≥3000℃/秒
保持三種升溫方式 功率升溫速率:≥2000℃/秒
升溫模式:功率升溫和光控快速升溫
控溫方式:室溫~1000℃采用功率控溫,1000℃~3000℃
采用光控升溫,控溫精度≤1%,溫度重現(xiàn)性≤0.5%
? 背景校正
火焰、石墨爐均可實(shí)現(xiàn)背景校正。
校正方式:氘燈、自吸背景校正(可選)。
校正能力:在背景吸收值接近于1.0Abs時(shí),儀器具有60倍以上的背景校正能力。
? 數(shù)據(jù)處理
測(cè)量方式:火焰吸收法,火焰發(fā)射法,石墨爐法,氫化物法。
分析方法:線性方程、非線性方程、標(biāo)準(zhǔn)加入法。
打印輸出:校準(zhǔn)曲線、信號(hào)圖譜、儀器條件、分析參數(shù)和分析結(jié)果等均可自動(dòng)存儲(chǔ)和打印。
? 石墨爐電源內(nèi)置的一體主機(jī)
尺寸:890(長(zhǎng))×570(寬)×490(高)mm,125kg。
電源:~220V 50Hz 單相供電,主機(jī)500W,石墨爐5kW。
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