污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
深圳市邦企創(chuàng)源科技有限公司
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更新時(shí)間:2024-03-15 14:45:45瀏覽次數(shù):247次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線臺(tái)式勻膠機(jī)適用于微電子、半導(dǎo)體、制版、新能源、生物材料、光學(xué)及表面涂覆等工藝,主要應(yīng)用于溶膠-凝膠(sol-gel)實(shí)驗(yàn)中的薄膜制作,其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂布在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,
晶圓勻膠機(jī)/噴膠機(jī),臺(tái)式勻膠機(jī)產(chǎn)品均采用觸摸屏加高級(jí)PLC程序控制系統(tǒng),可編程分步運(yùn)行,精確控制,方便易用;,采用CNC一體化加工成型,內(nèi)腔內(nèi)壁呈凹面,有效防止膠液回濺。用于實(shí)驗(yàn)室、旋涂、清洗、顯影、熱板。桌面型勻膠機(jī)是一款臺(tái)式半自動(dòng)勻膠機(jī)系統(tǒng),功能強(qiáng)大,具有勻膠、清洗、顯影和干燥等多種功能,樣品尺寸為8寸晶圓或者150mm*150mm方片。
臺(tái)式勻膠機(jī)產(chǎn)品特色
1. 落地臺(tái)式機(jī),結(jié)構(gòu)緊湊,所有單元集成在一臺(tái)設(shè)備中,集成度高。
2. 手動(dòng)裝載/卸載
3. 襯底可達(dá) ?200 mm (?8 inch) 或 150 x 150 mm (6 x 6 inch)
4. 軟件提供用戶友好的操作
5. 直驅(qū)旋涂電機(jī)
6. 全軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)且可編程
7. 帶安全中斷傳感器的透明蓋
8. 外殼上有電源開關(guān) ON / OFF
9. 工藝腔和可更換防濺環(huán),易于拆卸以進(jìn)行清潔。
10. 系統(tǒng)材料為PP材質(zhì),耐所有類型的抗蝕劑和溶劑以及各種清潔介質(zhì)。
11. 包括 0.5 升廢液瓶
晶圓勻膠機(jī) 技術(shù)數(shù)據(jù)
1. 襯底尺寸: 可達(dá) ?200 mm (?8 inch) 或 150 x 150 mm (6 x 6 inch)
2. 電機(jī)轉(zhuǎn)速: 10.000rpm, 步長(zhǎng) 1 rpm
3. 電機(jī)加速: 4.000 rpm/s
4. 步進(jìn)時(shí)間: 1 至 999.9 s,步長(zhǎng)為 0.1s
5. 工藝腔材質(zhì): 由天然 PP 制成
6. 系統(tǒng)架構(gòu)材質(zhì): 由白色 PP 制成
7. 液體線路:
8. 3線: 2 x 24 V / 1 Amp (每條) / 觸發(fā)點(diǎn) 0.1 秒 - ∞
9. 5線: 6 x 24 V / 1 Amp (每條) / 觸發(fā)點(diǎn) 0.1 秒 - ∞
勻膠設(shè)備可選配項(xiàng)
1. 自動(dòng)液體輸送臂 2. 液體罐 3. 防濺環(huán)
4. 廢液池 5. DI水沖洗 6. N2吹掃
7. 熱板 8. 不同類型的夾具 9. 中心定位模塊
勻膠機(jī)如何選購
勻膠工藝中最重要的一個(gè)因素就是可重復(fù)性。滴膠之后,下一步是高速旋轉(zhuǎn)。使光刻膠層變薄達(dá)到最終要求的膜厚,這個(gè)階段的轉(zhuǎn)速一般在1500-6000轉(zhuǎn)/分,轉(zhuǎn)速的選定同樣要看光刻膠的性能(包括粘度,溶劑揮發(fā)速度,固體含量以及表面張力等)以及基片的大小。
快速旋轉(zhuǎn)的時(shí)間可以從10秒到幾分鐘。勻膠的轉(zhuǎn)速以及勻膠時(shí)間往往能決定最終膠膜的厚度。一般來說,勻膠轉(zhuǎn)速快,時(shí)間長(zhǎng),膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多,這些因素在勻膠時(shí)往往相互抵銷并趨于平衡。微細(xì)的工藝參數(shù)變化會(huì)帶來薄膜特性巨大的差異,下面對(duì)一些可變的因素進(jìn)行分析:
勻膠機(jī)旋轉(zhuǎn)速度 :
勻膠轉(zhuǎn)速是勻膠過程中最重要的因素?;霓D(zhuǎn)速(rpm)不僅影響到作用于光刻膠的離心力,而且還關(guān)系到緊挨著基片表面空氣的湍動(dòng)和基片與空氣的相對(duì)運(yùn)動(dòng)速度。光刻膠的最終膜厚通常都由勻膠轉(zhuǎn)速所決定。
尤其在高速旋轉(zhuǎn)這個(gè)階段,轉(zhuǎn)速±50rpm這樣微小變化就能造成最終膜厚產(chǎn)生10%的偏差。膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥(溶劑揮發(fā))速率之間平衡的結(jié)果。
隨著光刻膠中溶劑不斷揮發(fā),粘度越來越大,直到基片旋轉(zhuǎn)作用于光刻膠的離心力不再能使光刻膠在基片表面移動(dòng)。到這個(gè)點(diǎn)上,膠膜厚度不會(huì)隨勻膠時(shí)間延長(zhǎng)而變薄。
勻膠機(jī)規(guī)格要求在量程范圍內(nèi)無論選擇哪個(gè)速度勻膠轉(zhuǎn)速偏差不大于±1rpm。而通常實(shí)際偏差是±0.2rpm。而且,所有的控制程序和轉(zhuǎn)速顯示的分辨能力都是1rpm。
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