| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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| 檢測種類 | 其他 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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氨氮測定儀
REK-20SN是泰州睿科分析儀器有限公司根據(jù)化學(xué)發(fā)光原理和紫外熒光原理與計算機技術(shù)相結(jié)合研發(fā)的精密實驗儀器。儀器具有靈敏度高、噪音低、線性范圍寬、抗干擾能力強、分析精度高、操作簡便、結(jié)果穩(wěn)定可靠等突出優(yōu)點，儀器散熱風(fēng)扇自動開關(guān)，省去做完樣品后等待關(guān)機的煩惱，可廣泛應(yīng)用于石油、化工、電力、煤炭、食品、環(huán)境保護(hù)及其它領(lǐng)域。
產(chǎn)品符合SH/0657、ASTM D4629、ASTM D5762、 ASTM D5453、SH/T0689等標(biāo)準(zhǔn)
氨氮測定儀
２基本原理：
2.1 REK-20SN硫氮測定儀工作原理如下：
當(dāng)樣品被引入高溫裂解爐后，經(jīng)氧化裂解，其中的硫定量地轉(zhuǎn)化為二氧化硫（SO2），其中的氮化物定量地轉(zhuǎn)化為一氧化氮（NO），其反應(yīng)過程如（1）式所示。反應(yīng)氣由載氣攜帶經(jīng)膜干燥脫水后進(jìn)入反應(yīng)室。
（1）R－S＋R－N＋O２ SO２＋NO＋ SO3+CO２＋H２O +MOX
NO在反應(yīng)室內(nèi)與來自臭氧發(fā)生器的臭氧（O3）發(fā)生反應(yīng)，部分一氧化氮轉(zhuǎn)化為激發(fā)態(tài)的二氧化氮（NO2*），當(dāng)NO2*從激發(fā)態(tài)躍遷到基態(tài)時發(fā)射出光子，光子信號由光電倍增管接收放大，再經(jīng)放大器和計算機數(shù)據(jù)處理，即可以轉(zhuǎn)換為與發(fā)光強度成正比的電信號。在一定條件下，反應(yīng)中產(chǎn)生的化學(xué)發(fā)光的強度與一氧化氮的生成量成正比，一氧化氮的量又與樣品中的總氮含量成正比，故可以通過測定化學(xué)發(fā)光的強度來測定樣品中的總氮含量。整個反應(yīng)過程可以表示如（2）所示：
（2）NO + O3 ————> NO2* + O2————> NO2+hγ
反應(yīng)室內(nèi)的部分SO２在受紫外光照射后轉(zhuǎn)化為激發(fā)態(tài)的二氧化硫（S02*）,當(dāng)S02*躍遷到基態(tài)時發(fā)射出光子，光電子信號由光電倍增管接收，再經(jīng)放大器放大，計算機數(shù)據(jù)處理，即可以轉(zhuǎn)換為與光強度成正比的電信號，反應(yīng)中產(chǎn)生的熒光強度與二氧化硫的生成量成正比，二氧化硫的量又與樣品中的總硫含量成正比，故可以通過測定熒光強度來測定樣品中的總硫含量。整個反應(yīng)過程可以表示（3）所示：
（3）SO2 + hγ，————> SO2*————> SO2 + hγ
分析樣品前先用與樣品相接近的標(biāo)樣，制作標(biāo)樣校正曲線，在相同條件下再分析樣品，程序自動依據(jù)標(biāo)樣校正曲線計算出樣品的硫氮含量。
2.2 REK-20SN硫氮測定儀工作原理圖:
圖1：REK-20SN型硫氮測定儀原理圖
３硫氮測定儀工作要求及技術(shù)參數(shù)
3.1儀器測量范圍
·0.2mg/L ～ 10000mg/L （液體）
·1.0mg/L ～ 10000mg/L （固體）
·1.0mg/m3 ～ 10000mg/ m3 （氣體）
注：當(dāng)樣品含量大于10000 mg/L時，稀釋后進(jìn)行測量。
3.2 儀器的重復(fù)性誤差
·0.2 mg/L≤X＜1.0 mg/L ≤±0.2 mg/L
·1.0 mg/L≤X＜10 mg/L Cv≤10%
· X＞10 mg/L Cv≤5%
REK-20SN型硫氮測定儀 硫氮分析儀 價格 資料
3.3 環(huán)境要求：
·環(huán)境溫度基本恒定，要求10～30℃之間，相對濕度小于85%，避免光線直射,建議使用
空調(diào)房間。
·空氣中不得含有腐蝕性氣體及灰塵，以免引起腐蝕、短路及降低儀器測量的靈敏度。
·儀器工作臺面要求：長約2米、寬約0.8米，并能承受約60Kg重量，工作臺面必須保持平穩(wěn)、無機械振動。
·室內(nèi)必須保持空氣流通，嚴(yán)禁有任何可燃性氣體存在。
3.4 電源要求：
·電源電壓：～220V±5% 50Hz
·電源功率：≥3kw。
·儀器要具備良好的接地，對地電阻不大于5Ω。
·儀器避免與大功率高頻設(shè)備共用同一相電源。
REK-20SN型硫氮測定儀 硫氮分析儀 價格 資料
3.5 氣源要求：
·高純氧氣：純度>99.999%，且含水量小于5ppm，氣壓0.2MPa（分壓），流量250～500mL/min，氣體鋼瓶需配備氧氣減壓閥門。
·高純氬氣：純度>99.999%，且含水量小于5ppm，氣壓0.2MPa（分壓），流量50～300mL/min，氣體鋼瓶需配備氬氣減壓閥門。
