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全自動單站化學(xué)吸附儀CM8310系列

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更新時間:2022-11-15 15:59:34瀏覽次數(shù):264次

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CHEMIMASTER8310系列全自動化學(xué)吸附儀簡介chemiMaster8310(CM8310)系列儀器基于動態(tài)技術(shù)

詳細(xì)介紹


CHEMIMASTER 8310系列全自動化學(xué)吸附儀簡介

       chemiMaster 8310(CM8310)系列儀器基于動態(tài)技術(shù),可進行TPD(程序升溫脫附)、TPR(程序升溫還原),TPO(程序升溫氧化)、脈沖化學(xué)吸附測金屬分散度、蒸汽吸附、BET單點比表面積的物理吸附分析、多組分競爭性吸附,用于測定催化劑材料的酸堿量、酸堿強度、貴金屬分散度、氧化還原性能、多組分競爭性吸附等重要指標(biāo)。

l  反應(yīng)爐工作溫度范圍:室溫~1200℃

l  反應(yīng)爐溫度測控方式:采用“床溫”和“爐溫”雙點測控方式 

l  樣品溫度測控方式:獨立的溫度傳感測量與控制

l  檢測器類型:線性度良好的高靈敏熱導(dǎo)檢測器TCD 

l  儀器內(nèi)部整體保溫:可達(dá)300℃

l  MFC數(shù)量: 2

l  氣體管路數(shù):8路氣體

l  氣體流速范圍:5~100 SCCM

l  程序升溫實時顯示

l  閥門狀態(tài)實時顯示

l  TCD (and 質(zhì)譜 MS)狀態(tài)

l  具有系統(tǒng)危險狀態(tài)報警功能

l  多組分競爭性氣體吸附,可以進入4路氣體

l  蒸汽發(fā)生器: 可以選配蒸汽發(fā)生器,可以進行各種蒸汽化學(xué)吸附

l  LOOP環(huán):可以選配3種體積以上的LOOP環(huán),最小體積150微升

l  管路材質(zhì)和管徑:配置1/8 英寸的SS 316不銹鋼管路和自動六通閥 

l  管路保溫:儀器內(nèi)部所有管線和控制閥門均加熱控溫以防止蒸汽的凝結(jié)和滯留 

長寬高:110CM*63CM*83CM,功率:1500瓦,重量:150kg
 

競爭性吸附
 

       通過TPD或脈沖滴定等過程,可以測試樣品對于特定氣體吸附量。但在實際應(yīng)用中,樣品所接觸到的氣氛通常更為復(fù)雜,不同氣體同時與樣品接觸時,吸附能力并非簡單的加和關(guān)系,而有可能表現(xiàn)出不同組分的競爭關(guān)系(X組分的存在有可能抑制樣品對于Y組分的吸附)或協(xié)調(diào)關(guān)系(X組分的存在有可能促進樣品對于Y組分的吸附)。因此對于實際應(yīng)用場景,有必要針對更為復(fù)雜的氣體配比條件,測試樣品對于多組分氣體的實際吸附能力。


儀器功能
 

TPD:程序升溫脫附

樣品的表面活性位(例如酸中心)吸附探針分子(例如NH3)后,在載氣吹掃下進行程序升溫,記錄樣品溫度與載氣濃度的變化,即為TPD測試譜圖。譜圖中探針分子的脫附峰的溫度對應(yīng)活性中心的強度,譜圖中探針分子的脫附峰的面積對應(yīng)活性中心的數(shù)量。

TPR/TPO:程序升溫還原/程序升溫氧化

TPR用于表征金屬催化劑的還原性。用一定比例的H2/Ar混合氣體作為載氣流過樣品床層并按照一定速率程序升溫。記錄樣品溫度與載氣濃度的變化,即為TPR測試譜圖。譜圖中還原峰的溫度對應(yīng)金屬中心的還原性能,譜圖中還原峰的面積對應(yīng)金屬中心還原過程的耗氫量。

TPO與TPR類似,用氧化性氣體代替還原性氣體,用于測試金屬中心的氧化性能。

脈沖滴定


以脈沖方式向樣品表面定量注入特定的氣體,記錄載氣濃度的變化,未被吸附的氣體將流過樣品床層并被檢測器記錄。記錄載氣濃度的變化得到脈沖滴定譜圖,其中記錄到的峰對應(yīng)于未被吸附的氣體的量,脈沖的次數(shù)對應(yīng)于總脈沖量,兩者差減就是樣品的吸附量。脈沖滴定用于表征活性金屬面積,分散度,平均晶粒尺寸等參數(shù)。

 


 

 
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