具體應用于：
（1）電合成、電沉積（電鍍）、陽極氧化、電解等反應機理研究；
（2）電化學分析研究，包括：氧還原研究（ORR）、氧析出研究（OER）、氫析出（HER）、二氧化碳還原等；
（3）能源材料（鋰離子電池、太陽能電池、燃料動力電池和超級電容器等）、*功能材料以及傳感器的性能研究；
（4）金屬材料的腐蝕行為研究與耐蝕性評價；
（5）緩蝕劑、水質穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護效率的快速評價。
CS2350H除了具備單通道工作站的所有特點，還可用于電化學分析四電極工作體系，尤其在氧還原（ORR）中間產物收集、金屬中氫擴散測試有著廣泛的運用。
典型應用
配合旋轉環(huán)盤電極（RRDE）用于研究氧化還原體系
在測量圓盤電極極化曲線的同時，將環(huán)電壓設置為恒電位，控制圓環(huán)電極在固定的極化電勢，用以檢測圓盤電極上產生的反應中間物，該方法也成為檢測反應中間物和研究電極反應機理的典型流體動力學方法。氧還原反應的電子轉移數和相應的雙氧水（中間產物）產率可分別通過公式測得：
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其中知Idisk和Iring分別為測得的盤電流和環(huán)電流，電極收集效率N由盤環(huán)電極參數決定（常數）。將測試結果代入以上公式即可求得實際反應的電子轉移數n和H2O2（%）所占比例。
圖1. 氧還原（ORR）中間產物檢測
金屬中氫擴散測試 
圖2. 金屬中氫擴散控制
兩個恒電位裝置配合Devnathan-Stachurski雙電解池，通過左側電解池的陰極充氫和右側電解的氫原子陽極氧化電流測量，進而計算氫原子在金屬中擴散系數和氫通量。
圖2. 金屬中氫擴散控制
