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科邁斯科技股份有限公司
參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號HT2000H
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地
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更新時間:2023-02-23 08:48:10瀏覽次數(shù):204次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線■市場上的擁有成本HT2000H具有市場上的設(shè)備運(yùn)營成本
■ 市場上的擁有成本
HT2000H具有市場上的設(shè)備運(yùn)營成本。不需要載流氣,因為氣體僅用于樣品之間的吹掃。無需更換O形圈或密封圈,節(jié)省了數(shù)小時的不必要停機(jī)時間。不需要磁性蓋或特殊蓋,因為樣品瓶移動是十分可靠。在您的指示運(yùn)行完成后,隨即關(guān)閉加熱裝置,以減少電力消耗。
■ 直截了當(dāng)?shù)牧鞒毯蜕a(chǎn)力
用戶將樣品瓶放在托盤中。將小瓶通過自動進(jìn)樣器夾具抓取,并放置在烘箱中,在此同時加熱和搖動小瓶,以促進(jìn)變化達(dá)到化學(xué)平衡。然后,注射器從每個小瓶中抽出頂部空間蒸氣,并將其注入GC進(jìn)樣器中。最后,在啟動注射器清潔程序的同時,將小瓶自動放回托盤中。為了獲得的樣品通量,最多可以在烤箱中同時加熱6個樣品瓶。
■ 樣品瓶泄漏檢查和系統(tǒng)完整性測試
HT2000H具有重要的功能,為您的分析結(jié)果提供額外的穩(wěn)健性,包含預(yù)防性維護(hù)計數(shù)器、系統(tǒng)完整性測試(可在每批操作中自動執(zhí)行)以及樣品瓶泄漏檢查(專有技術(shù))等樣品瓶泄漏問題。
■ 支持高溫應(yīng)用
特殊型號HT2000HT的樣品加熱溫度為300°C:它能夠在注射器系統(tǒng)中執(zhí)行高溫頂空應(yīng)用,而不受閥和回路系統(tǒng)的限制。該系統(tǒng)可以處理標(biāo)準(zhǔn)的頂空應(yīng)用程序(要求溫度低于150°C),同時仍然非常適合于特殊的高溫應(yīng)用程序,包括對高沸點(diǎn)化合物和聚合物的分析。 HT2000HT是用于化學(xué)產(chǎn)品材料質(zhì)量控制和熱誘導(dǎo)降解研究的理想儀器。
不同型號比較 | HT2100H | HT2000H | HT2000HT |
---|---|---|---|
Sample Capacity | 14 samples: 20 or 10ml | 42 samples: 20, 10 or 6ml | 42 samples: 20, 10 or 6ml |
Removable Rack | - | √ | √ |
User Interface | Keypad | Touch Screen | Touch Screen |
Oven Position(s) | 1 | 6 | 3 |
Oven Temperature Range | Off; 40-150°C | Off; 40-170°C | Off; 40-300°C |
Shaking Capability | YES (Sussultatory) | YES (Orbital) | YES (Orbital) |
Programmable Injection Volume | √ | ||
Supported Headspace Syringe | 1, 2.5 and 5ml | ||
Software: HTA Autosampler Manager (Standard Version) | Included | Free trial (60 days) | Free trial (60 days) |
項目 | 規(guī)格 |
---|---|
Syringe volume | 2.5ml (standard); optional: 1 and 5ml |
Cleaning system | Inert gas flush (inlet: 1/8”; max pressure: 1bar) |
Maintenance | preventive counters available |
Electrical control | LAN and TTL; optional: RS232 (HT2000H) |
Syringe area illumination | Yes |
Tray capacity | |
HT2000H/HT2000HT | 42 vials (20ml); optional: 6 and 10ml (1 removable rack) |
HT2100H | 14 vials (20ml); optional: 10ml |
Conditioning | |
Conditioning | 1 (HT2100H) 6 (HT2000H) 3 (HT2000HT) |
Oven temperature | off; 40-150°C (HT2100H) off; 40-170°C (HT2000H) off; 40-300°C (HT2000HT) |
Shaking method | sussultatory (HT2100H) orbital (HT2000H and HT2000HT) |
Shaker speed | from very low to very high |
Shaking cycles | on/off 0-9.9min |
Incubation time | 0-999min |
Sampling | |
Syringe temperature | off; 40-150°C (HT2000H and HT2100H) off; 40-150°C (HT2000HT) |
Sample volume | steps of 0.01ml |
Sample homogenization | up to 15 |
Sample speed | 0.1-100ml/min |
Injection | |
Injection speed | 0.5-100ml/min |
Pre/Post dwell time | 0-99sec |
Enrichment: | up to 15 |
Dwell time between injections | 0-100min |
Physical features | |
Dimensions (WxHxD) | 280x640x320mm (HT2100H) 330x640x320mm (HT2000H and HT2000HT)2 |
Weight | 8.0kg (HT2100H) 10.0kg (HT2000H and HT2000HT) |
Power supply | 100-240±10%Vac; 50-60Hz; 60W (HT2100H) 100-240±10%Vac; 50-60Hz; 120W (HT2000H and HT2000HT) |
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