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離子濺射儀NE-900

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更新時(shí)間：2023-03-08 16:26:43瀏覽次數(shù)：156次

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離子濺射儀NE-900依據(jù)二極(DC)直流濺射原理

詳細(xì)介紹

離子濺射儀NE-900依據(jù)二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥在工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體。根據(jù)電場(chǎng)中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層均勻純凈。

產(chǎn)品參數(shù)：

型號(hào)	離子濺射儀NE-900
主機(jī)規(guī)格	300mm×360mm×380mm（W×D×H）
靶（上部電極）	50mm×0.1mm（D×H）
靶材	Au（標(biāo)配）
樣品室	硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm（D×H）
靶材尺寸	Ф 50mm
真空指示表	真空度：≤ 4X10-2 mbar
離子電流表	電流：50mA
定時(shí)器	最長(zhǎng)時(shí)間：0-360S
微型真空氣閥	可連接φ 3mm 軟管
可通入氣體	多種
電壓	-1600 DCV
機(jī)械泵	標(biāo)準(zhǔn)配置 2L/S（國(guó)產(chǎn) VRD-8）

離子濺射儀NE-900產(chǎn)品特點(diǎn)：

1、簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)、可靠、外觀精美。
2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3、SETPLASMA 手動(dòng)啟動(dòng)按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對(duì)膜造成不必要的損傷。
4、真空保護(hù)可避免真空過(guò)低造成設(shè)備短路。
5、同時(shí)可以通過(guò)更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。

6、通過(guò)通入不同的惰性氣體以達(dá)到更純凈的涂層。

關(guān)鍵詞：離子濺射儀

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