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行業(yè)產(chǎn)品

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錦州市潤(rùn)佳真空設(shè)備科技有限公司


制粉鍍膜機(jī)

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更新時(shí)間：2023-03-02 16:13:01瀏覽次數(shù)：175次

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FTZKDM-998真空鍍膜機(jī)參數(shù)真空鍍膜技術(shù)基片升溫低，沉積速率高為主要特點(diǎn)，該沉積工藝在電導(dǎo)膜、光學(xué)膜、保護(hù)膜、裝飾膜等諸多方面都有廣泛應(yīng)用

詳細(xì)介紹

FTZKDM-998真空鍍膜機(jī)參數(shù)

真空鍍膜技術(shù)基片升溫低，沉積速率高為主要特點(diǎn)，該沉積工藝在電導(dǎo)膜、光學(xué)膜、保護(hù)膜、

裝飾膜等諸多方面都有廣泛應(yīng)用。本設(shè)備是集磁控濺射和弧源為一體較為*的生產(chǎn)設(shè)備，

可生產(chǎn)不同規(guī)格的金屬膜產(chǎn)品。

主要技術(shù)指標(biāo)

1.  整機(jī)外形尺寸：3200*1600*2438mm（長(zhǎng)x寬x高）

  真空室外型尺寸：φ998x700mm（有冷水）

2.極限真空度：6.7x10-4Pa

3.恢復(fù)真空度：清潔空爐由大氣抽至6.7x10-3Pa≤30min

4.壓升率：1Pa/h（清潔空爐）

5功率:

   磁控源電源功率:10KVA

   弧電源功率:3KVA

6.矩形磁控靶材尺寸：384x131x12mm

7.弧源靶材尺寸：φ100x70mm

8.烘烤溫度：0~500℃

9.冷卻水：流量：20~35L/min

10.充氣系統(tǒng)：質(zhì)量流量計(jì) 3路顯示

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