污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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更新時(shí)間：2023-03-03 16:45:54瀏覽次數(shù)：217次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線真空鍍膜技術(shù)基片升溫低，沉積速率高為主要特點(diǎn)，該沉積工藝在電導(dǎo)膜、光學(xué)膜、保護(hù)膜、裝飾膜等諸多方面都有廣泛應(yīng)用
真空鍍膜技術(shù)基片升溫低，沉積速率高為主要特點(diǎn)，該沉積工藝在電導(dǎo)膜、光學(xué)膜、保護(hù)膜、裝飾膜等諸多方面都有廣泛應(yīng)用。本設(shè)備是集磁控濺射和弧源為一體較為*的生產(chǎn)設(shè)備，可生產(chǎn)不同規(guī)格的金屬膜產(chǎn)品。
主要技術(shù)指標(biāo)：
01、整機(jī)外形尺寸：3200×1600X2438mm（長(zhǎng)×寬X高）
真空室外形尺寸：Φ998×700mm（有水冷）
02、極限真空度：6.7×10-4 Pa
03、恢復(fù)真空度：清潔空爐由大氣抽至6.7×10-3 Pa≤30 min
04、壓升率：6 Pa/ h（清潔空爐）
05、功率：
磁控源電源功率：10KVA
弧電源功率：3KVA
06、矩形磁控靶材尺寸：384×131×12mm
07、弧源靶材尺寸：φ100×70mm
08、烘烤溫度：0～500 ℃
09、冷卻水 ：流量： 20～35 L / min
10、充氣系統(tǒng)：質(zhì)量流量計(jì)3路顯示
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