HIGH PRECISION E-BEAM EVAPORATION COATING MACHINE 高精密電子束蒸發(fā)鍍膜機
在玻璃/PC/PMMA基片上形成高精度光學多層薄膜的精密真空鍍膜機；將滿足客戶需求的多種元件組合在一起，可以形成品質(zhì)更加優(yōu)良的薄膜；基片傘架采用中心旋轉(zhuǎn)方式(公轉(zhuǎn))，減少產(chǎn)生振動和顆粒，使基片能夠穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)。
采用坩堝上沒有極片的電子束加熱方式作為蒸發(fā)源，可以穩(wěn)定地形成多層膜；采用本公司的比率控制法和多點在線監(jiān)控，可以形成高精度且穩(wěn)定的光學多層膜；可利用操作性良好的升降機來取出基片傘架。
使用均勻分布的高離子電流密度的離子源，搭載雙電子槍，多點和環(huán)型坩堝可鍍100層以上，利用自動蒸鍍控制系統(tǒng)實現(xiàn)全自動蒸鍍過程，工件架可選擇鐘罩式或行星式。
AR 膜（基材玻璃透過率＞91.5%）：
■ 420-680nm波段，單面平均透過率＞95%，反射率小于0.5（平均值）% ；
■ 雙面平均透過率＞98%，反射率小于0.5（平均值）%；
AS/AF膜測試標準：
■ 初始接觸角范圍為 115±5°；
■ 鋼絲絨耐摩擦測試標準：用 0000#鋼絲絨，面積為 10*10mm,行程 40 次/分，負載1Kg，5000 次往返摩擦后，接觸角大于 100°；
■ 橡皮擦測試標準： 直徑 6mm 橡皮擦，行程 25 次/分，負載1Kg， 2500 次往返摩擦后，接觸角大于 100°；
備注：測試樣片玻璃需為經(jīng)過精密拋光過的觸摸屏蓋板專用玻璃，表面光潔。
優(yōu)勢：
?提高沉積速率以實現(xiàn)更高產(chǎn)量
?在半導體，光電和光子學領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)高精度工藝
?堅固耐用且易于維護
