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產(chǎn)品型號(hào)齊全
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地衡水市
更新時(shí)間:2024-10-16 07:48:01瀏覽次數(shù):816次
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脫硫除塵器 脫硫設(shè)備在燃煤鍋爐脫硫除塵行業(yè),除塵脫硫設(shè)備應(yīng)用廣泛,可以濕法除塵,濕法脫硫,也可以除塵脫硫除塵一體化,不僅適合電站燃煤循環(huán)硫化床鍋爐除塵脫硫,也可應(yīng)用燃煤鏈條鍋爐的濕法脫硫除塵和煙氣凈化,脫除二氧化硫效率高,尾氣凈化*,應(yīng)用在爐窯行業(yè)脫除氟化氫和窯爐尾氣酸性廢氣凈化設(shè)備等,并對(duì)球團(tuán)、燒結(jié)機(jī)尾氣脫硫。脫硫劑的廢氨水凈化效率*,原煙氣SO2由11000mg/m3,脫除到120mg/m3以下,廣泛應(yīng)用在鋼廠球團(tuán)煙氣領(lǐng)域。是一種低阻高效的濕法除塵脫硫設(shè)備和新穎的脫硫設(shè)備環(huán)保產(chǎn)品?!〕龎m器就是用來(lái)除去氣相中的有害塵埃的設(shè)備,在此基礎(chǔ)上增加脫硫效果,就是脫硫除塵器?! ∶摿虺龎m器一般為濕式脫硫除塵器,濕式脫硫除塵有水膜脫硫除塵,沖擊水浴脫硫除塵等。 濕式除塵的優(yōu)點(diǎn)是易維護(hù),且可通過(guò)配制不同的除塵劑,同時(shí)達(dá)到除塵和脫硫(脫氮)的效果;缺點(diǎn)是除塵液需處理,可能導(dǎo)致二次污染。
工藝基本原理
雙堿法煙氣脫硫技術(shù)是為了克服石灰石—石灰法容易結(jié)垢的缺點(diǎn)而發(fā)展起來(lái)的。傳統(tǒng)的石灰石 / 石灰—石膏法煙氣脫硫工藝采用鈣基脫硫劑吸收二氧化硫后生成的亞硫酸鈣、硫酸鈣,由于其溶解度較小,極易在脫硫塔內(nèi)及管道內(nèi)形成結(jié)垢、堵塞現(xiàn)象。結(jié)垢堵塞問(wèn)題嚴(yán)重影響脫硫系統(tǒng)的正常運(yùn)行,更甚者嚴(yán)重影響鍋爐系統(tǒng)的正常運(yùn)行。為了盡量避免用鈣基脫硫劑的不利因素,鈣法脫硫工藝大都需要配備相應(yīng)的強(qiáng)制氧化系統(tǒng)(曝氣系統(tǒng)),從而增加初投資及運(yùn)行費(fèi)用,用廉價(jià)的脫硫劑而易造成結(jié)垢堵塞問(wèn)題,單純采用鈉基脫硫劑運(yùn)行費(fèi)用太高而且脫硫產(chǎn)物不易處理,二者矛盾相互凸現(xiàn),雙堿法煙氣脫硫工藝應(yīng)運(yùn)而生,該工藝較好的解決了上述矛盾問(wèn)題。
熱力公司脫硫除塵塔|高效脫硫除塵器技術(shù)方案::一種旋轉(zhuǎn)噴淋脫硫塔,頂部設(shè)有煙氣出口,中部設(shè)有煙氣進(jìn)口,所述脫硫塔內(nèi)自上而下依序分成除霧段、噴淋段和循環(huán)段,除霧段設(shè)在煙氣出口下方;噴淋段設(shè)在煙氣進(jìn)口的上方,包括三級(jí)噴淋裝置,*級(jí)為渦流式噴嘴,第二、三級(jí)為普通噴嘴;循環(huán)段設(shè)在煙氣進(jìn)口的下方,循環(huán)池內(nèi)吸收循環(huán)液與液氨混合,循環(huán)液出口設(shè)在循環(huán)池的中上部;循環(huán)液出口外接循環(huán)泵,通過(guò)管道與三級(jí)噴淋裝置聯(lián)通;凈化后的煙氣通入煙氣換熱器,與未脫硫的煙氣進(jìn)行換熱。優(yōu)點(diǎn)是:避免硫酸銨晶體結(jié)晶于填料和管路上,噴淋有效覆蓋截面,提高脫硫效率,有清洗裝置,某一級(jí)發(fā)生堵塞,另外兩級(jí)仍可運(yùn)行。
用于燃料以煤,木材,稻殼,鋸末等燃燒的鍋爐,窯爐,旋轉(zhuǎn)窯等設(shè)備的脫硫除塵雙堿法是采用鈉基脫硫劑進(jìn)行塔內(nèi)脫硫,由于鈉基脫硫劑堿性強(qiáng),吸收二氧化硫后反應(yīng)產(chǎn)物溶解度大,不會(huì)造成過(guò)飽和結(jié)晶,造成結(jié)垢堵塞問(wèn)題。另一方面脫硫產(chǎn)物被排入再生池內(nèi)用氫氧化鈣進(jìn)行還原再生,再生出的鈉基脫硫劑再被打回脫硫塔循環(huán)使用。雙堿法脫硫工藝降低了投資及運(yùn)行費(fèi)用,比較適用于中小型鍋爐進(jìn)行脫硫改造。雙堿法煙氣脫硫技術(shù)是利用氫氧化鈉溶液作為啟動(dòng)脫硫劑,配制好的氫氧化鈉溶液直接打入脫硫塔洗滌脫除煙氣中SO2來(lái)達(dá)到煙氣脫硫的目的,然后脫硫產(chǎn)物經(jīng)脫硫劑再生池還原成氫氧化鈉再打回脫硫塔內(nèi)循環(huán)使用。
|高效脫硫除塵器技術(shù)方案:工藝主要包括5個(gè)部分:
(1)吸收劑制備與補(bǔ)充;
(2)吸收劑漿液噴淋;
(3)塔內(nèi)霧滴與煙氣接觸混合;
(4)再生池漿液還原鈉基堿;
(5)石膏脫水處理。
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