簡要描述：鄭科探小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD是我公司專為科研院所及實(shí)驗(yàn)室用戶群體設(shè)計(jì)開發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。機(jī)架電控一體化設(shè)計(jì)，整體布局緊湊合理，充分考慮人機(jī)工程學(xué)的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發(fā)狀態(tài)的玻璃真空室結(jié)構(gòu)相得益彰。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)。廣泛應(yīng)用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等，特別適合太陽能電池、有機(jī)EL、LED顯示管研究與開發(fā)領(lǐng)域。

詳細(xì)介紹

鄭科探小型蒸鍍儀

-熱蒸發(fā)源：電阻式熱蒸發(fā)舟，交流電源；
- 腔體：不銹鋼或石英腔體可供客戶選擇；
- 泵：前級(jí)干泵，分子泵；
- Load Lock樣品傳輸腔室：手動(dòng)或自動(dòng)傳輸，高真空，支持多種樣品襯底(選配)；
- 工藝控制：PC/PLC機(jī)制的自動(dòng)控制、數(shù)據(jù)處理、工藝記憶儲(chǔ)存；

- 襯底固定：單襯底固定，客戶化襯底固定方式；

- 襯底夾具：加熱，冷卻，偏置，旋轉(zhuǎn)等；

- 保護(hù)樣品：配有樣品擋板，可手動(dòng)或自動(dòng)開/關(guān)擋板，達(dá)到及時(shí)遮擋樣品效果；

以下為蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的示意圖：

以下是不同真空度不同鍍膜時(shí)間鍍銅樣品圖

原樣品沒有鍍膜 115A 100秒機(jī)械泵

115A 100秒分子泵抽12分鐘 115A 120秒分子泵抽20分鐘

真空度越高越不易氧化越接近金屬本色

鄭科探小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD技術(shù)資料

控制方式	7寸人機(jī)界面手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制
加熱方式	數(shù)字式功率調(diào)整器
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1200W
輸出電壓電流	電壓≤12V 電流≤120A
真空度	機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤10^-3Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
樣品臺(tái)	可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速	8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離	70-140mm
蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié)	≤1800℃
支持蒸發(fā)坩堝類型	鎢絲藍(lán) 帶坩堝鎢絲藍(lán) 鎢舟碳繩
預(yù)留真空接口	KF25抽氣口 KF16真空計(jì)接口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口
可選配擴(kuò)展	機(jī)械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）數(shù)顯真空計(jì)（測量范圍大氣壓到0.1Pa）分子泵機(jī)組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）