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金屬磁控濺射儀

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更新時(shí)間：2024-04-28 10:23:42瀏覽次數(shù)：115次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

金屬磁控濺射儀，外形小巧，功率電流大小可調(diào)，觸摸屏控制，有工藝儲(chǔ)存功能，外配水冷機(jī)可長(zhǎng)時(shí)間工作。

詳細(xì)介紹

金屬磁控濺射儀這是一種易于使用的基本儀器，用于SEM試樣的鍍金。它具有全可變電流控制、帶暫停選項(xiàng)的數(shù)字過(guò)程定時(shí)器、可變高度試樣臺(tái)、鉸鏈頂板和 O 形圈密封真空室。該控制裝置允許獨(dú)立于氣體壓力設(shè)置濺射電流，氣體壓力由手動(dòng)泄漏閥單獨(dú)調(diào)節(jié)。覆蓋面和晶粒尺寸針對(duì)任何試樣進(jìn)行了優(yōu)化,徑目標(biāo)的冷磁控管型磁頭能夠以最小的加熱實(shí)現(xiàn)高效的濺射。鍍膜時(shí)間由帶有數(shù)字讀數(shù)的定時(shí)器設(shè)置并存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中。真空狀態(tài)和濺射電流顯示在C觸摸屏上。

金屬磁控濺射儀廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù)；

控制方式	7寸人機(jī)界面手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制
濺射電源	直流濺射電源
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1000W
輸出電壓電流	電壓≤1000V 電流≤1A
真空	機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空	≤30Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺(tái)	可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速	8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離	40-105mm
真空測(cè)量	皮拉尼真空計(jì)（已安裝測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
預(yù)留真空接口	KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口