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當(dāng)前位置:上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司>>產(chǎn)品展示>>HMDS烘箱
智能型HMDS蒸鍍機(jī)臺(tái)是一種 具有預(yù)處理性能更好,處理更加均勻,效率高,更加節(jié)省藥液特性的智能型烘箱。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶...
HMDS蒸鍍烤箱,可程式HMDS機(jī)臺(tái)通過對(duì)烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS...
SECS/GEM通訊HMDS鍍膜機(jī)通過對(duì)烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處...
HMDS烘箱真空泵,IDP10無油泵泵具有密封設(shè)計(jì),電機(jī)和軸承與真空環(huán)路全隔離,延長(zhǎng)了軸承的使用壽命,并提供潔凈、無油的真空條件。IDP 泵采用單面渦旋設(shè)計(jì),可...
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)報(bào)價(jià)它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。
HMDS蒸鍍系統(tǒng),無塵HMDS烤箱?通過對(duì)烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS...
氣相成底膜烤箱,HMDS蒸氣淀積系統(tǒng)用于除去硅片表面的污染物(顆粒、有機(jī)物、工藝殘余、可動(dòng)離子),除去水蒸氣,使基底表面由親水性變?yōu)樵魉?,增?qiáng)表面的黏附性(H...
OAP烘箱,OAP處理烘箱處理主要是為了改善親水性表面,變?yōu)槭杷?,從而達(dá)到增加光刻膠粘附性的作用。
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設(shè)備的作用是勻膠前襯底“增附"處理。在光刻中,通常會(huì)用到一些例如藍(lán)寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底,這類襯底與光刻膠...
芯片HMDS預(yù)處理,可編程HMDS通過對(duì)烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處...
HMDS蒸鍍真空烤箱,芯片HMDS蒸鍍烤箱HMDS的HMDS蒸鍍就是利用惰性氣體(例如氮?dú)猓е鳫MDS的蒸汽通過芯片表面,而在晶面上形成一層薄膜
HMDS 烘箱是將HMDS蒸汽通過干燥的真空腔內(nèi)加熱到(120-150°C),在襯底表面上HMDS作為單層膜進(jìn)行化學(xué)結(jié)合。
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等...
HMDS真空烘箱處理系統(tǒng):性能更好,由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理,所以不會(huì)有塵埃的干擾,再者,由于該系統(tǒng)是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一...
智能型HMDS系統(tǒng)真空泵,HMDS涂膠機(jī)干泵密封設(shè)計(jì)(電機(jī)和所有軸承與真空環(huán)路*隔開)延長(zhǎng)了軸承的使用壽命, 還可提供潔凈、無油的真空條件。可選的集成入口保護(hù)閥...
HMDS烤箱,HMDS真空烘箱將HMDS氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝,同一個(gè)容器中進(jìn)行,晶片在箱內(nèi)先經(jīng)過100℃-200℃的去水烘烤,再進(jìn)行H...
智能型HMDS真空系統(tǒng)(JS-HMDS90-AI)將HMDS氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅...
智能型HMDS涂膠機(jī),自動(dòng)HMDS涂膠鍍膜機(jī)也稱為HMDS處理,是用于使晶片表面呈疏水性的處理。
HMDS增粘裝置,涂敷HMDS增粘劑的裝置通過對(duì)箱體內(nèi)預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,增加了...
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