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編號：101003

用途：HPLC法含量測定

包裝：100mg

保存條件：常溫，避光

* 其它相關(guān)產(chǎn)品：

130608 *系統(tǒng)適用性  供系統(tǒng)適用性 130608-201001 30mg 2-8℃，避光
130609 *系統(tǒng)適用性 僅供系統(tǒng)適用性實驗 130609-201001 50mg 2-8℃，避光
130610 *雜質(zhì)A 有關(guān)物質(zhì) 130610-201001 50mg 2-8℃，避光
130611 *雜質(zhì)B 僅供系統(tǒng)適用性實驗 130611-201101 50mg 2-8℃，避光
130612 *雜質(zhì)A 有關(guān)物質(zhì) 130612-201102 20mg 2-8℃，避光
130613 *雜質(zhì)E 有關(guān)物質(zhì) 130613-201102 20mg 2-8℃，避光
130614 （左）*雜質(zhì)A 有關(guān)物質(zhì) 130614-201102 50mg 2-8℃，避光
130615 （左）*雜質(zhì)B 有關(guān)物質(zhì) 130615-201102 50mg 2-8℃，避光
130616 （左）*雜質(zhì)A 有關(guān)物質(zhì) 130616-201102 50mg 2-8℃，避光
130617 *雜質(zhì)C 有關(guān)物質(zhì) 130617-201102 100mg 2-8℃，避光
130618 *系統(tǒng)適用性 僅供系統(tǒng)適用性實驗 130618-201102 30mg 2-8℃，避光
130619 *系統(tǒng)適用性對照品 僅供系統(tǒng)適用性實驗 130619-201001 30mg 2-8℃，避光
130624 *胺二硫化物 有關(guān)物質(zhì) 130624-201101 30mg 2-8℃，避光
130650 *雜質(zhì)J 有關(guān)物質(zhì) 130650-201001 50mg 2-8℃，避光
130660 反式* 有關(guān)物質(zhì) 130660-201001 50mg 2-8℃，避光
130661 *雜質(zhì)C 有關(guān)物質(zhì) 130661-201001 50mg 2-8℃，避光
135001 硫乙醇酸鹽流體對照培養(yǎng)基 培養(yǎng)基適應(yīng)性 135001-201002 11.9g/400ml 常溫，避光
135002 改良馬丁對照培養(yǎng)基 培養(yǎng)基適應(yīng)性 135002-201002 11.4g/400ml 常溫，避光