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知否知否,RO膜應是這樣清洗

2020年05月13日 13:31:07人氣:29081來源:北京寶萊爾科技有限公司

反滲透膜元件在正常運行一段時間后,會受到給水中存在的懸浮物或難溶鹽的污染,這些污染中常見的是碳酸鈣沉淀、硫酸鈣沉淀、金屬氧化物沉淀、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物等污染。

污染性質和污染速度取決于各種因素,如給水水質和系統(tǒng)回收率。通常污染是漸進發(fā)展的,如不盡早控制,污染將會在相對較短的時間內損壞膜元件。當膜元件確認已被污染,或是在長期停機之前,或是作為定期日常維護,需對膜元件進行清洗。

1-清洗預警

一般情況當反滲透膜(或裝置)出現(xiàn)以下癥狀時,建議進行清洗:

正常給水壓力條件下,產水量較正常值下降10-15%;

為維持正常的產水量,經溫度校正后的給水壓力增加10-15%;

產水水質降低10-15%,透鹽率增加10-15%,給水壓力增加了10-15%;系統(tǒng)各段之間壓差明顯增加。

2-分析污堵

清洗前需要對膜污染的狀況進行分析,確定污染物的種類,根據(jù)反滲透膜污染、結垢的具體情況,選擇有針對性的清洗劑進行清洗。實際應用中常采用以下簡便易行的分析方法。

① 前端與末端污染觀察

預處理濾料(砂粒、活性炭)泄露、膠體污染、有機物污染和生物污染,前端嚴重,可以從前端膜元件入口觀察到顆粒物及粘液狀污染。產生生物污染時會發(fā)現(xiàn)腥臭味粘液物質,灼燒刮取的生物粘泥(粘膜),會有蛋白質的焦臭氣體。

無機鹽結垢在系統(tǒng)末端嚴重,在末端膜元件端頭處可以摸到粗糙的粉狀物。用鹽酸(pH=3-4)溶解時有氣體冒出,說明沉淀物可能是CaCO3。硫酸鹽垢、硅垢在pH很低時也很難溶解。如果垢在0.1moL/L的HF溶液中是可溶的,則可能是硅垢。

② 稱重

污染的膜元件進水流道附著了污染物,整體重量會加大。將取出的膜元件豎立放置,瀝干水分后稱重,與膜元件的參考重量進行對比,多余的重量即為附著污染物的重量。

3-制定清洗方案

清洗的方式一般物理清洗和化學清洗,是可以相互配合的兩種清洗手段。幾乎在所有清洗中都是一起進行的,在面對輕度污染時,采用物理清洗時添加一些化學藥品可以成倍地增加清洗的效果;同樣在面對嚴重污染時,采用化學清洗時也對以使用一些物理性的強化手段來增強化學清洗的效果。

物理清洗

物理清洗是通過適當壓力、高流速的進水沖刷膜元件,將短時間內在膜表面附者的污染物和堆積物清洗掉的方式。清洗時的要點是高流速、適當壓力和加大清洗頻率。

流速:清洗時應使用比正常運行時更高的流速,單支膜管流速不超過15m3/h。

壓力:清洗時盡可能地通過低壓,高流速的方式,增加水平方向的剪斷力把污染物沖出膜元件。清洗壓力一般建議控制在3.0kg以下。

低壓沖洗的頻率:在條件允許的情況下,建議經常對系統(tǒng)進行清洗。一般清洗的頻率推薦為1天1次以上。

化學清洗

化學清洗是使用相應的化學藥劑與污染物發(fā)生反應,使其溶于水中,然后排出膜元件,恢復膜元件的性能。

① 選用的化學藥劑,符合膜元件的要求。

② 采用組合式方法完成清洗工作,包括適宜的清洗pH、溫度及接觸時間等參數(shù)。

③ 在推薦的溫度下進行清洗,同時應盡可能減少化學藥劑與膜元件的接觸次數(shù),盡量縮短清洗時間,以求達到好的清洗效率和延長膜元件壽命的效果。

④ 應該謹慎地控制清洗液的pH范圍,允許使用的范圍為2~12。

⑤ 典型的、有效的清洗方法是從高pH至低pH溶液進行清洗,由于高pH會增加膜孔擴張,使電導率升高,再以低pH藥劑使膜孔緊縮,運行72h以上時間后可以恢復,為保證系統(tǒng)脫鹽率,建議先高pH后低pH進行清洗;如果為擴大產水量,可采用先低pH后高pH進行清洗:另外當清洗油污染脫的元件時不能從低pH開始,因為油在低pH時會固化。

⑥ 如果系統(tǒng)已發(fā)生生物污染,就要考慮在清洗時加入一個殺菌化學清洗步驟。殺菌操作可在清洗后立即進行,也可在清洗前或運行期間定期進行(如一星期一次),連續(xù)加入一定的劑量。

⑦ 為安全起見,要確保在清洗時所有的軟管和管路吋承受清洗溫度、壓力和pH條件下的操作。

⑧ 為保證安全,溶解化學藥品時,切記要慢慢地將化學藥劑加入充足的水中并同時進行攪拃,使其*溶解于水中。

⑨ 從安全方面考慮,不能將酸與苛性(腐蝕性)物質混合。在要使用下一種溶液之前,應從RO系統(tǒng)中*沖洗干凈滯留的前一種化學清洗溶液。

⑩ 當清洗過程中發(fā)現(xiàn)清洗液臟到一定程度時,為避免使清洗下來的污染物重新吸附于反滲透膜中,建議更換新的藥劑繼續(xù)清洗。

4-清洗用藥品推薦

普通酸堿與清洗藥劑對比

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