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緩蝕阻垢劑廠家專業(yè)生產(chǎn)廠家
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- 【資料簡介】
有機(jī)膦系列阻垢劑
ATMP具有良好的螯合、低限抑制及晶格畸變作用??勺柚顾谐晒耕}類形成水垢,特別是碳酸鈣垢的形成。ATMP在水中化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,不易水解。在水中濃度較高時(shí),有良好的緩蝕效果。HEDP是一種有機(jī)膦酸類阻垢緩蝕劑,能與鐵、銅、鋅等多種金屬離子形成穩(wěn)定的絡(luò)合物,能溶解金屬表面的氧化物。在250℃下仍能起到良好的緩蝕阻垢作用,在高pH下仍很穩(wěn)定,不易水解,一般光熱條件下不易分解。耐酸堿性、耐氯氧化性能較其它有機(jī)膦酸(鹽)好。EDTMPS是含氮有機(jī)多元膦酸,屬陰極型緩蝕劑,與無機(jī)聚磷酸鹽相比,緩蝕率高3~5倍。能與水混溶,無毒無污染,化學(xué)穩(wěn)定性及耐溫性好,在100℃下仍有良好的阻垢效果。EDTMPS在水溶液中能離解成8個(gè)正負(fù)離子,因而可以與多個(gè)金屬離子螯合,形成多個(gè)單體結(jié)構(gòu)大分子網(wǎng)狀絡(luò)合物,松散地分散于水中,使鈣垢正常結(jié)晶被破壞。EDTMPS對鈣、鋇垢的阻垢效果好。EDTMPA具有很強(qiáng)的螯合金屬離子的能力,與銅離子的絡(luò)合常數(shù)是包括EDTA在內(nèi)的所有螯合劑中大的。EDTMPA為高純試劑且無毒,在電子行業(yè)可作為半導(dǎo)體芯片的清洗劑用于制造集成電路;在醫(yī)藥行業(yè)作放射性元素的攜帶劑,用于檢查和治療疾病;EDTMPA的螯合能力遠(yuǎn)超過EDTA和DTPA,幾乎在所有使用EDTA作螯合劑的地方都可用EDTMPA替代。
鍋爐防垢劑 (軟水劑)一、概述
運(yùn)行中的鍋爐常常有堅(jiān)硬的水垢,熱阻增大浪費(fèi)燃料, 影響鍋爐出力,嚴(yán)重時(shí)會炸管,造成停爐事故。大中型鍋爐防止結(jié)垢常用爐外水處理的 方法而小型低壓爐的往往不具備爐外水處理?xiàng)l件,宜采用爐內(nèi)水處理的方法 ,這就是加防垢劑的方法。防垢劑又稱軟水劑,加入爐內(nèi)是水軟化,以減少結(jié)垢。這種方法方便簡單實(shí)用,深受用戶歡迎。
二、防垢原理
鍋爐防垢劑由堿性物質(zhì)和有機(jī)物質(zhì)復(fù)配而成。防垢劑中的堿性物質(zhì)使?fàn)t水中的鈣。鎂鹽類形成水渣,水渣通過排污除掉。這樣就除去了鈣、鎂離子,使其不能形成堅(jiān)硬的水垢。防垢劑中的有機(jī)物,會增加水渣的流動性,是之容易排出,同時(shí)有機(jī)物還會在金屬表面形成阻止層,阻止金屬表面形成水垢。這一系列的化學(xué)和物理作用,就防止了水垢的形成。防垢劑是加入運(yùn)行中的爐水里,在長時(shí)間的運(yùn)行中,也會與老的水垢發(fā)生化學(xué)反應(yīng),
是老水垢從鍋爐上剝落下來。這個(gè)從意義上看,它又會起到除垢作用。尤其是某些鹽和硅酸鹽嚴(yán)重的鍋爐,使用防垢劑的用戶反映除垢效果很明顯。
三、用量
鍋爐防垢劑應(yīng)根據(jù)鍋爐給水硬度用藥。一般可按下列要求用藥:
1、給水硬度≤2毫米當(dāng)量的、加防水劑40克/噸水。
2、給水硬度沒增加2毫米當(dāng)量/升的,加藥量增加35克每噸水。
3、在不清楚給水硬度的情況下,按上述原則適當(dāng)多加一些。
四、使用方法
鍋爐防垢劑有兩種加藥方法。一種是帶有水箱或水池,但無省煤器的鍋爐,可把藥直接加入水箱或者水池中,隨著供水把要送入爐內(nèi)。另一種是用加藥漏斗把藥直接加入爐內(nèi)。在加藥前先把藥用80℃熱水化開,過濾一下??梢圆捎瞄g斷加藥法,即沒班加一次也可一次加足。加藥后注意控制爐水,使用PH值不超過10-12為宜。同時(shí)定期排污,排污率一般在5-10%之間。
每班至少排一次,每次不超過30-60秒。若排污后,水位無變化,應(yīng)檢查脫落的老水垢是否堵塞管線,若管線堵塞,應(yīng)即使采取措施。五、注意事項(xiàng)
1、爐內(nèi)處理,操作簡單容易掌握,但操作人員必須認(rèn)真負(fù)責(zé),做到經(jīng)常檢查、化驗(yàn),才能達(dá)到預(yù)期的效果。
2、爐內(nèi)水處理前,應(yīng)盡量先除垢,以防老水垢大量脫離脫離堵塞管路。在壓火、停爐后要沖洗一次。并注意水位變化情況。3、定期檢查,在加藥一個(gè)月后要停爐檢查一次,清楚老水垢及積存的水渣,查看防垢效果。以后應(yīng)按期做上述檢查。
4、認(rèn)真進(jìn)行監(jiān)督。并經(jīng)常注意水位水質(zhì)的變化。
5、飲用水昝不使用。
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