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北京科諾儀器設備有限公司

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微量高壓光化學反應釜

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號YZ-HPPR系列

品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所在地

更新時間:2022-05-11 11:20:37瀏覽次數(shù):235次

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科諾儀器微量光化學高壓反應釜裝置包含:光源設備、光化學反應釜、光源及釜體溫控攪拌三大模塊組成

科諾儀器 微量光化學高壓反應釜裝置包含:光源設備、光化學反應釜、光源及釜體溫控攪拌三大模塊組成。用于新能源及環(huán)境領域的高溫高壓光化學催化、合成、降解等反應。如:光解水制氫,光催化還原二氧化碳制甲醇,光解水,二氧化碳還原制甲烷、氮氧化物的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等。特別適用少量樣品的反應,是昂貴或低產(chǎn)量樣品光催化,降解,還原的理想反應裝置。

科諾儀器 微量光化學高壓反應釜*技術(shù)特點:

1、光源可按照客戶要求選擇,采用LCD10.1英吋液晶觸摸控制器,光源光電參數(shù)及光化學反應的溫度,攪拌等參數(shù)實時數(shù)字顯示在屏幕上,國內(nèi)。

2、更高的使用壓力及溫度設計,普通廠家提供壓力:3mpa,溫度為200℃的設計,巖征公司提供設計壓力于普通廠家4倍的安全壓力釜體設計。

3、更專業(yè)的光化學釜體設計:釜體包含壓力表、防爆裝置、進氣閥門、取樣閥門,溫度測溫探桿,耐壓透光視窗6大齊全部件,全方面監(jiān)控及采集您所需要的技術(shù)參數(shù)。

4、采用頂入式光源設計,特制防霧雙層JGS2光學級透光視窗,可特別選用藍寶石視窗。

5、嵌入式一體加熱模塊結(jié)構(gòu),加熱更均勻。釜體、加熱器可*分離。極大的方便了反應釜的拆卸工作,提高工作效率。

6、更全面的光化學反應釜的材質(zhì)選擇,除了提供普通廠家提供的SU316L材質(zhì)的釜體外,還提供不銹鋼內(nèi)襯teflon,鈦材,鎳材,哈氏合金等非標材質(zhì)釜體的定做。

巖征儀器 微量光化學高壓反應釜型號為:YZ-GHX-HP系列,對應容積分別有10ml,25ml,50ml,100ml,250ml,500ml六款可選。

 

科諾儀器 微量光化學高壓反應釜技術(shù)參數(shù)表:

型號YZ-GHX-HP系列
容 積10、25、50、100、250、500ml可選
工作溫度300℃以內(nèi)
工作壓力10mpa以內(nèi)
光源類型紫外及模擬太陽光源
透光孔材質(zhì)JGS2光學級石英或藍寶石晶體
加熱方式模塊加熱加熱更均勻,釜體,加熱模塊可輕松分離。
加熱功率0.5-1KW
攪拌速度0-1500rpm
攪拌方式內(nèi)部磁力攪拌
材質(zhì)標配SU316L,另有哈式合金、鈦材、鋯材、鎳材可選
巖征儀器優(yōu)勢

1、國內(nèi)液晶觸摸控制屏,光源及光化學反應釜參數(shù)實時液晶顯示及屏幕上直接修改控制。
2、創(chuàng),安全泄放壓力可調(diào)節(jié),客戶可根據(jù)實驗要求自己調(diào)節(jié)安全工作壓力,杜絕防爆膜爆破一次不可重復使用的問題。
3、頂入式特制防霧耐壓視窗,提高25%光通過率。
4、更齊全的釜體材質(zhì)選擇及更全面釜體部件配置,讓您數(shù)據(jù)采集參數(shù)更全。
5、更高的壓力設計及溫度設計,提供更高的安全保護。

參數(shù)科諾儀器 微量光化學高壓反應釜國內(nèi)同行業(yè)廠家設備
光源情況光源采用頂部開孔平行照射式,氙燈采用美國進口PE燈源,另選配100W,300W,500W,1000W汞燈,汞氙燈,氙燈光源。普通光源,光源功率瓦數(shù)上不全。
容積10-500ml(巖征公司是專業(yè)反應釜公司,容積、規(guī)格圖紙完善,設計施工一體,可按照客戶需求定制。容積單一,集中在100ml,200ml等一些常用規(guī)格上
控制部分國內(nèi),謹防!液晶觸摸屏操作,PLC程序控制,控制箱體外觀及功能設計已申請,控制系統(tǒng)可控制汞燈,氙燈,金鹵燈等各種實驗光源的點亮,閉合,并且支持燈源穩(wěn)定時間設置,10.1吋液晶顯示屏實時顯示光源功率、電流、電壓等實驗重要參數(shù),給您的實驗帶來的方便!按鈕操作。只能簡單實現(xiàn)光源的點亮及關(guān)閉。
釜體材質(zhì)標配316L不銹鋼,另有鈦材,鋯材,蒙乃爾合金,哈氏合金等可選普通不銹鋼
通光孔設置防霧耐壓紫外石英視窗,通光孔徑30mm,通光率在92%以上??蛇x配藍寶石材質(zhì)或配鍍膜透光耐壓視鏡。石英材質(zhì)
溫度設置采用PID程序控制溫度,控溫范圍:室溫-300℃,另有-30℃-280℃溫度可定做。*環(huán)繞式加熱裝置,保證光化學反應中釜內(nèi)各部分物料的溫度均勻性。控溫均勻性不能保證。
壓力設置標準工作壓力10mpa以內(nèi),設計壓力為12.5mpa。釜體配壓力表及安全泄壓裝置保證反應安全.壓力一般在3mpa,沒有嚴格的試壓標準及規(guī)范
攪拌控制液晶觸摸屏控制,轉(zhuǎn)速數(shù)字顯示,可控可調(diào)。速度:0-1500rpm巖征公司的攪拌集成度高,可控可顯。國內(nèi)廠家兩種情況,一種是不帶攪拌,一種是釜底放置在磁力攪拌器上
通氣設置光化學釜蓋設置有通氣口,可實現(xiàn)光照反應在真空負壓下反應,通氮氣反應,通氧氣反應,通其他氣體反應等。配高溫高壓進口通氣閥門,可通多路氣體。可通低壓氣體,不可多路通氣。
取樣設置在光催化高溫高壓情況下(250℃、10mpa),巖征公司*帶壓取液相物料設計,可以在不終止反應情況下進行手動取樣,在線分析。在低溫低壓的情況下,(常溫、0.5mpa)少數(shù)廠家可以實現(xiàn)這個功能。


微量高壓光化學反應釜

科諾儀器微量光化學高壓反應釜裝置包含:光源設備、光化學反應釜、光源及釜

高壓光化學反應釜

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科諾儀器光化學玻璃反應釜用于新能源,環(huán)境、新藥研發(fā)領域的常溫常壓或真空

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