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PCE-22紫外臭氧清洗機(jī)

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更新時(shí)間：2023-02-16 09:54:44瀏覽次數(shù)：218次

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  紫外臭氧清洗

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沈陽科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

PCE-22紫外臭氧清洗機(jī)

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：PCE-22紫外臭氧清洗機(jī)是一款可加熱型的紫外臭氧清洗機(jī)，其加熱溫度可達(dá)150℃。此款設(shè)備可用于清洗各種基片，為制作高質(zhì)量的薄膜打好基礎(chǔ)。特別適合移除光刻膠，改善表面潤濕性，清洗SEM &TEM，紫外對(duì)聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對(duì)材料無損傷的原子級(jí)別的清洗手段，特別適合清除一些有機(jī)化合物。紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光：185nm和254nm。其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌粞酰?54nm可以破壞化合物中的鍵（特別是碳碳鍵）。所以這兩種波長的光組合可有效地清除有機(jī)化合物。

產(chǎn)品型號(hào)	PCE-22紫外臭氧清洗機(jī)
主要特點(diǎn)	1、僅室內(nèi)使用; 海拔高度5500英尺以內(nèi); 2、溫度范圍：5-40℃; 3、相對(duì)濕度80％，30.5℃，40℃線性降至50％相對(duì)濕度; 4、主電源波動(dòng)不超過額定電壓的10％; 5、污染等級(jí)2; 臭氧水平（環(huán)境）測(cè)量<45 ppb。 6、去除分子級(jí)別的污染物 7、紫外光固化粘合劑 8、紫外光催化 9、氧化PDMS 10、表面消毒 11、刻蝕 12、清洗MEMS 器件 13、清洗各種基片，如Si, Ge, GaAs和各種氧化物單晶基片
技術(shù)參數(shù)	1、功率：350W 2、AC 208~240V，單相 50/60Hz
	腔體&樣品臺(tái) 1、不銹鋼殼體 2、抽屜式樣品臺(tái)，以便放樣取樣 3、樣品臺(tái)面積310 mm x 320 mm 4、臭氧通風(fēng)裝置安裝在腔體上 5、樣品臺(tái)與紫外燈的距離：20mm -40mm（可調(diào)） 6、樣品臺(tái)可以加熱，溫度可達(dá)150℃ 7、可設(shè)置20段升降溫程序，控溫精度為+/-1℃ 8、設(shè)備運(yùn)行時(shí)間：0.01 秒- 99.9小時(shí)
	排氣口 1、直徑為80mm的排氣口安裝在儀器后端 2、請(qǐng)將橡膠管與排氣口連接，將臭氧排出到實(shí)驗(yàn)室外 3、儀器中不包含橡膠管
	紫外燈 1、可發(fā)出雙波長的水銀燈 2、功率：55W 3、發(fā)出光的波長：254 nm 和 185 nm 4、使用壽命：2500 小時(shí)（可更換） 5、照射區(qū)域：200 x 200 mm 6、可以清潔直徑為12英寸x 35毫米的晶體晶片。
產(chǎn)品規(guī)格	1、尺寸：510mm x 350mm x 400mm (W x H x D) 2、重量：28kg