黃生
日本shinkuu金屬薄膜鍍膜裝置MSP-1S
本設備專用于SEM觀察貴金屬薄膜鍍膜。該設備進行貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產(chǎn)生的效率。除了磁控靶電極的低壓放電外,樣品臺是浮動的,以減少電子束流入對樣品造成的損壞。操作簡單,只需按下按鈕,沒有任何技巧。它很小,不占用太多空間。在桌子的一角活躍。
用途
用于 SEM 樣品的金屬鍍膜設備。
日本shinkuu金屬薄膜鍍膜裝置MSP-1S
規(guī)格
物品 | 規(guī)格 |
電源 | AC100V(單相100V 10A)3P插頭帶地線1口 |
旋轉(zhuǎn)泵 | 10 L/min(內(nèi)置于設備中) |
設備尺寸 | 寬200mm x 深350mm x 高345mm (設備重量:14.6Kg) |
樣品室尺寸 | 內(nèi)徑120mm x 高65mm(硬玻璃) |
樣本表大小 | 直徑50mm(浮動法) |
電極樣品臺間隔 | 35 mm(使用輔助樣品臺時為 25 mm) |
靶電極 | 內(nèi)置永磁體的磁控管型靶電極 |
目標金屬規(guī)格 | Φ51mm,厚度0.1mm Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd、Ag |
本設備專用于SEM觀察貴金屬薄膜鍍膜。該設備進行貴金屬涂層以防止 SEM 樣品充電并提高二次電子產(chǎn)生的效率。除了磁控靶電極的低壓放電外,樣品臺是浮動的,以減少電子束流入對樣品造成的損壞。操作簡單,只需按下按鈕,沒有任何技巧。它很小,不占用太多空間。在桌子的一角活躍。
用途
用于 SEM 樣品的金屬鍍膜設備。
規(guī)格
物品 | 規(guī)格 |
電源 | AC100V(單相100V 10A)3P插頭帶地線1口 |
旋轉(zhuǎn)泵 | 10 L/min(內(nèi)置于設備中) |
設備尺寸 | 寬200mm x 深350mm x 高345mm (設備重量:14.6Kg) |
樣品室尺寸 | 內(nèi)徑120mm x 高65mm(硬玻璃) |
樣本表大小 | 直徑50mm(浮動法) |
電極樣品臺間隔 | 35 mm(使用輔助樣品臺時為 25 mm) |
靶電極 | 內(nèi)置永磁體的磁控管型靶電極 |
目標金屬規(guī)格 | Φ51mm,厚度0.1mm Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd、Ag |