青島佳鼎分析儀器有限公司
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詳細(xì)摘要： RadEye系列便攜式輻射測(cè)量?jī)x，體型較小、便于攜帶、操作簡(jiǎn)單、儀器有自檢功能、維護(hù)量小，不同的型號(hào)采用不同的探測(cè)器適合不同場(chǎng)合的輻射監(jiān)測(cè)，可用于α,β,γ,X...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：青島市更新時(shí)間：2023-11-03 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： 現(xiàn)有機(jī)型SU8240,SU8230,SU8220及SU8010重新整合，衍生而成Regulus8240、Regulus8230、Regulus8220、Regu...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：青島市更新時(shí)間：2023-11-02 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： HK-338在線(xiàn)電導(dǎo)率儀采用單片機(jī)控制系統(tǒng)，智能化程度高，測(cè)量精確，操作方便;配置堅(jiān)固的鑄鋁金屬外殼，體積輕巧且防靜電，抗力強(qiáng);主要用于連續(xù)監(jiān)測(cè)水溶液導(dǎo)電能力的...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：青島市更新時(shí)間：2023-10-29 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： SM-200具有高度的均勻性和可重復(fù)性，以及操作方便和操作舒適性
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-08-28 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： MATTSON二手刻蝕機(jī)ASPENIII，2006年設(shè)備，lightetcher，可對(duì)12英寸晶圓進(jìn)行蝕刻工藝處理
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-07-30 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： 3D掃描是指利用光學(xué)技術(shù)快速捕獲物體表面復(fù)雜形狀，將實(shí)物快速實(shí)現(xiàn)三維數(shù)字化模型的技術(shù)
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-07-25 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： ACL-350是世界上體積最小的袖珍式非接觸數(shù)字式靜電測(cè)量表
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-07-14 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： 二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨供應(yīng)MATRIXSYSTEMONE106，1995年設(shè)備，可對(duì)4-6英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-07-14 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： 二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨TOKYOOKA/TOKTCE-3822，2011年設(shè)備，可對(duì)尺寸為5英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝處理
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-07-13 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： PVATEPLA/TECHNICS300AUTOLOADPC刻蝕機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-07-05 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： PVATEPLA/TECHNICS660刻蝕機(jī)二手現(xiàn)貨，2008年設(shè)備，僅運(yùn)行16小時(shí)，微波等離子刻蝕設(shè)備
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-06-30 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： AspenIII基于具有接地法拉第屏蔽的專(zhuān)有ICP源設(shè)計(jì)，為半導(dǎo)體制造商提供經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證且具有成本效益的剝離和蝕刻解決方案
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-06-21 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： TEL刻蝕系統(tǒng)Tactras™是一種高度可靠的300毫米等離子蝕刻系統(tǒng)，可提高蝕刻工藝的工作效率
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-06-20 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： TEL刻蝕系統(tǒng)CertasLEAGA™是一種環(huán)保、高通量的氣體化學(xué)蝕刻系統(tǒng)，專(zhuān)為300毫米晶圓而設(shè)計(jì)，無(wú)需使用液體即可提供表面蝕刻和清潔
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-06-19 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： SAMCO等離子刻蝕機(jī)RIE-300NR是一種理想的反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，適用于加工?300mm晶圓和多晶圓（?3"×12，?4"×8等），具有優(yōu)異的均勻性
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-06-14 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： SAMCOICP刻蝕機(jī)RIE-230iP是以電感耦合等離子體為放電方式，高速進(jìn)行各種材料的超精細(xì)加工的負(fù)載鎖定型ICP蝕刻系統(tǒng)
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-06-13 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： SAMCO二手現(xiàn)貨ICP刻蝕機(jī)RIE-400iP是用于?4"晶圓的負(fù)載鎖定型蝕刻系統(tǒng)，可對(duì)各種半導(dǎo)體和絕緣膜進(jìn)行高精度、高均勻性加工
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-06-12 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： SAMACOICP蝕刻設(shè)備RIE-800iPC，具有優(yōu)良工藝再現(xiàn)性的生產(chǎn)設(shè)備它是一種使用感應(yīng)耦合等離子體作為放電類(lèi)型的高密度等離子體蝕刻設(shè)備
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-06-11 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： SAMCO二手翻新ICP刻蝕機(jī)RIE-400iPC，是高密度等離子體蝕刻系統(tǒng)，采用電感耦合等離子體作為放電形式
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-06-10 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： Lam9600旨在蝕刻具有高度垂直側(cè)壁的鋁金屬和TiW層，適用于0.35um線(xiàn)寬
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-06-03 在線(xiàn)留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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