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廣州智匯科學儀器有限公司
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GVC-2000磁控離子濺射儀 全自動控制，無需調整針閥鍍膜顆粒小，無熱損傷靶材更換非常簡單特殊密封結構，玻璃不易損壞內置操作向導，無需培訓即可熟練操作
主要參數 外形尺寸 424（L）×345（D）×420（H） 輸入電源 220V/800W 可用靶材 所有金屬、部分化合物 靶材尺寸 φ57mm 真空室 高硅硼玻璃 φ200×130mm 工作介質 高純氬氣（≥4N） 低真空泵 旋片泵 抽速 1.1L/s 高真空泵 進口渦輪分子泵 抽速 90L/s 極限真空 ≤5×10-3Pa 工作真空 0.1-3Pa 濺射電流 5-200mA 可調 濺射時間 1-999s 可調 樣品臺 φ125mm 樣品臺轉速 4-20rpm 可調 顯示屏 7 英寸 TFT 彩色觸摸屏 抽氣節(jié)拍 ≤5 分鐘 進氣 全自動 放氣 全自動 預濺射 具備預濺射擋板，全自動控制 保護功能 過流保護、真空保護、分子泵過熱保護等 膜厚儀 （選配） 可實時顯示鍍膜厚度，并通過設定來控制鍍膜過程，測量精度 0.1nm，單次鍍膜設定范圍 1-999nm，測量范圍 10μm 其它 可根據用戶需要，提供定制化產品
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