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(25μm) P150 大幅面

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更新時間：2024-02-18 14:09:36瀏覽次數(shù)：140次

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八帆儀器設(shè)備有限公司

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產(chǎn)品簡介

nanoArch P150是可以實(shí)現(xiàn)實(shí)現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng)，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢，被認(rèn)為是目前前......

詳細(xì)介紹

開啟微納3D精密制造之門

BMF nanoArch® P150 系統(tǒng)簡介

科研級3D打印系統(tǒng)

nanoArch® P150是科研級3D打印系統(tǒng)，擁有25μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

nanoArch® P150 系統(tǒng)性能

光源 UV-LED(405nm)	打印材料光敏樹脂	光學(xué)精度 25μm
XY打印精度 50~200μm	打印層厚 10~50μm	打印樣品尺寸 48mm(L)×27mm(W)×50mm(H)
打印文件格式 STL（單材）	系統(tǒng)外形尺寸 530mm(L)×540mm(W)×700mm(H)	重量 300kg
電氣要求 200~240V AC,50/60HZ,2KW	其他要求部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊	設(shè)備功率 2000W