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更新時(shí)間:2023-08-03 16:14:20瀏覽次數(shù):145次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線產(chǎn)品介紹失效分析是在提高產(chǎn)品質(zhì)量,技術(shù)開發(fā)、改進(jìn),產(chǎn)品修復(fù)及仲裁失效事故等方面具有很強(qiáng)的實(shí)際意義,是根據(jù)失效模式和現(xiàn)象,通過分析和驗(yàn)證,模擬重現(xiàn)失效的現(xiàn)象,找出失效的原因,挖掘出失效的機(jī)理的活動(dòng)
失效分析是在提高產(chǎn)品質(zhì)量,技術(shù)開發(fā)、改進(jìn),產(chǎn)品修復(fù)及仲裁失效事故等方面具有很強(qiáng)的實(shí)際意義,是根據(jù)失效模式和現(xiàn)象,通過分析和驗(yàn)證,模擬重現(xiàn)失效的現(xiàn)象,找出失效的原因,挖掘出失效的機(jī)理的活動(dòng)。
我們?yōu)榭蛻籼峁┑碾婌o檢測(cè)分析服務(wù)為:場(chǎng)發(fā)射環(huán)境掃描電子顯微鏡、鎢燈絲掃描電子顯微鏡、冷場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡、透視電子顯微鏡、場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡。
設(shè)備名稱:場(chǎng)發(fā)射環(huán)境掃描電子顯微鏡
型號(hào):Quanta 400 FEG
廠家:美國(guó)FEI
主要用途:
? 可在高真空、低真空(130Pa)、環(huán)境真空(4000Pa)下觀察導(dǎo)電和不導(dǎo)電樣品,對(duì)材料的表面和橫截面的微觀形貌、成分進(jìn)行分析,廣泛應(yīng)用于金屬材料、高分子材料、半導(dǎo)體材料、納米材料等領(lǐng)域;
? 配備的Apollo40 SDD能譜無需液氮制冷,可進(jìn)行快速的點(diǎn)、線、面分布分析,獲得能譜的mapping圖譜;
? 其樣品室直徑達(dá)284 mm,對(duì)于直徑達(dá)四英寸硅片可以直接進(jìn)行測(cè)試,無需對(duì)樣品進(jìn)行分割處理;
? 附件MonoCL3+陰極熒光譜儀不僅可以測(cè)量材料微區(qū)在電子束激發(fā)下的發(fā)光光譜,而且可以進(jìn)行成像 顯示,從而可以對(duì)樣品的禁帶寬度、雜質(zhì)缺陷等進(jìn)行表征,獲取更為豐富的信息;? 可以測(cè)量材料的電子束感生電流(EBIC),從而獲得材料內(nèi)部結(jié)構(gòu)缺陷等信息,與陰極熒光測(cè)量互為補(bǔ)充。
主要配置:
? MonoCL3+陰極熒光譜儀,波長(zhǎng)范圍160-930nm
? 電子束感生電流(EBIC)
? STEM探測(cè)器
? Apollo 40 SDD能譜儀
? 液氮冷臺(tái),溫度范圍為-185℃- +200℃
? 液氦冷臺(tái),溫度范圍為6K-300K
性能指標(biāo):
? 肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍
? 加速電壓:200V-30 kV
? 放大倍數(shù):12-2,000,000
? 分辨率:
高真空:
- 0.8nm at 30kV (STEM)
- 1.2nm at 30kV (SE)
- 2.5nm at 30kV (BSE)
- 3.0nm at 1kV (SE)
低真空:
- 1.5nm at 30kV (SE)
- 2.5nm at 30kV (BSE)
- 3.0nm at 3kV (SE)
環(huán)境真空:
- 1.5nm at 30kV (SE)
? 樣品室:284mm,5軸馬達(dá)臺(tái)
? EDS分辨率:優(yōu)于136 eV,可分析包括B5以上的所有元素
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