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日立高新技術(shù)(上海)國際貿(mào)易有限公司北京分公司
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更新時間:2023-09-01 20:05:30瀏覽次數(shù):156次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線IM4000PLUS是支持?jǐn)嗝嫜心ズ推矫嫜心ィ‵lat Milling*1)的混合式離子研磨儀器。借此,可以用于適用于各種諸如對樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)觀察和各類分析等,為評價目的樣品的制作。*1平面研磨(Flat Milling)是位于日本國內(nèi)的日立有限公司的注冊商標(biāo)。
IM4000PLUS是支持?jǐn)嗝嫜心ズ推矫嫜心ィ‵lat Milling®*1)的混合式離子研磨儀器。借此,可以用于適用于各種諸如對樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)觀察和各類分析等,為評價目的樣品的制作。
配備斷面研磨能力達(dá)到500 µm/h*2以上的高效率離子槍。因此,即使是硬質(zhì)材料,也可以高效地制備出斷面樣品。
斷面研磨加工原理圖
平面研磨(Flat Milling®)加工原理圖
附冷卻溫度調(diào)節(jié)功能的IM4000PLUS
該功能可有效防止加工過程中,由于離子束照射引發(fā)的樣品的溫度上升,所導(dǎo)致樣品的溶解和變形。對于過度冷卻后會產(chǎn)生開裂的樣品,通過冷卻溫度調(diào)節(jié)功能可防止其因過度冷卻而產(chǎn)生開裂。
常溫研磨
冷卻研磨
大氣隔離樣品桿,可讓樣品在不接觸空氣的狀態(tài)下進(jìn)行研磨。
密封蓋將樣品密閉,進(jìn)入真空排氣的樣品室后,打開密封蓋。如此,離子研磨加工后的樣品可以在不接觸空氣的狀態(tài)下直接設(shè)置到SEM*1、FIB*1、AFM*2上。
大氣暴露
大氣隔離
IM4000、IM4000PLUS通過設(shè)置在樣品室上方的立體顯微鏡,可觀察到研磨過程中的樣品。
如果是三目型,則可以通過CCD攝像頭*3進(jìn)行監(jiān)控觀察。
項(xiàng)目 | 內(nèi)容 | |
---|---|---|
IM4000PLUS | IM4000PLUS | |
斷面研磨桿 | 平面研磨桿 | |
使用氣體 | Ar(氬)氣 | |
加速電壓 | 0 ~ 6 kV | |
研磨速度(Si材料) | 500 µm/hr*1 以上 | - |
樣品尺寸 | 20(W)× 12(D)× 7(H)mm | Φ50 × 25(H) mm |
離子束 間歇照射功能 | 標(biāo)配 | |
尺寸 | 616(W)× 705(D)× 312(H)mm | |
重量 | 機(jī)體48 kg+回轉(zhuǎn)泵28 kg | |
附冷卻溫度調(diào)節(jié)功能的IM4000PLUS | ||
冷卻溫度調(diào)節(jié)功能 | 通過液氮間接冷卻樣品、溫度設(shè)定范圍:0°C ~ -100°C | |
選項(xiàng) | ||
空氣隔離 樣品夾持器 | 僅支持?jǐn)嗝嫜心A持器 | - |
FP版斷面研磨夾持器 | 100 µm/rotate*2 | - |
用于加工監(jiān)控的顯微鏡 | 倍率 15 × ~ 100 × 雙目型、三目型(支持CCD) |
如果是大約500 µm的角型的陶瓷電容器,則可以3小時內(nèi)制備出平滑的斷面。
低倍圖像
放大圖像
即使硬度和成分不同的多層結(jié)構(gòu)材料,也可以制備斷面。
低倍圖像
放大圖像
這是通過鋰電池正極材料,斷面研磨獲得平滑截面的應(yīng)用實(shí)例。
在SEM上觀察到的具有特殊對比度的部位,從SSRM(Scanning Spread Resistance Microscopy)圖像來看,考慮為電阻低的部位。
可以去除機(jī)械研磨所引起的研磨損傷和塌邊,并可觀察到金屬層、合金層和無鉛焊料的Ag分布。
機(jī)械研磨后
平面研磨后
因老化等變得臟污的觀察面、分析面,通過平面研磨,也可以獲得清晰的通道對比度圖像和EBSD模式。
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