污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)DL-855/4P-CMP
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地
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更新時(shí)間:2024-10-02 13:39:17瀏覽次數(shù):136次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線單面拋光機(jī)是單面精密拋光設(shè)備,采用的機(jī)械結(jié)構(gòu)和多種控制方法,拋光加工效率高,運(yùn)行穩(wěn)定。
◎ 本設(shè)備為單面精密拋光設(shè)備,采用的機(jī)械結(jié)構(gòu)和多種控制方法,拋光加工效率高,運(yùn)行穩(wěn)定。
◎ 整機(jī)采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),設(shè)備參數(shù)設(shè)置和操作簡(jiǎn)單方便,系統(tǒng)運(yùn)行穩(wěn)定性高。
◎ 主電機(jī)采用變頻調(diào)速控制,實(shí)現(xiàn)主機(jī)軟啟動(dòng)、軟停機(jī)降低設(shè)備運(yùn)行沖擊,減少工件損傷。
◎ 工件拋光壓力采用氣缸加壓方式,通過(guò)電氣比例閥控制實(shí)現(xiàn)壓力的閉環(huán)控制,保證的施壓精度與穩(wěn)定性。
◎ 上壓盤采用主動(dòng)驅(qū)動(dòng)方式,在確保產(chǎn)品撤光速率的前提下保證各工位拋光加工的統(tǒng)一性。
◎ 拋光盤與上壓盤都設(shè)置了冷卻水冷卻功能,在保證拋光液發(fā)揮效率的同時(shí)減少拋光盤面的變形。
參數(shù)名稱 | 單位 | DL-855/4P-CMP | |
主電源 | V | 三相 380 | |
主電機(jī)功率 | KW | 15 | |
主電機(jī)轉(zhuǎn)速 | RPM | 0~85 | |
上盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)轉(zhuǎn)速 | RPM | 0~70 | |
拋光盤尺寸 | mm | 855 | |
加工尺寸 | 寸 | 2-8 | |
工作工位 | 組 | 4 | |
工件盤尺寸 | mm | Φ305x15 | |
單工位壓力 | Kg | 20~300 | |
拋光液流速 | L/min | 15(可調(diào)) | |
主盤溫度檢測(cè) | 度 | ±5 | |
設(shè)備尺寸(W x D x H) | mm | 1200x1650x2250 | |
設(shè)備重量 | Kg | 約2450 |
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