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激光脫硝氨逃逸在線分析系統(tǒng)(NH3)

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地

聯(lián)系方式:李經(jīng)理查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間:2022-11-26 12:52:16瀏覽次數(shù):426次

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經(jīng)營模式:生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品:27條

所在地區(qū):山東濟(jì)寧市

聯(lián)系人:李經(jīng)理 (業(yè)務(wù)經(jīng)理)

產(chǎn)品簡介

激光脫硝氨逃逸在線分析系統(tǒng)一、項(xiàng)目概述脫硝噴氨過程需要準(zhǔn)確監(jiān)測氨逃逸濃度,該款脫硝氨逃逸監(jiān)測產(chǎn)品是大方科技近十年氨逃逸監(jiān)測的經(jīng)典款,擁有上千套成功應(yīng)用案例

詳細(xì)介紹

激光脫硝氨逃逸在線分析系統(tǒng)


一、項(xiàng)目概述

      脫硝噴氨過程需要準(zhǔn)確監(jiān)測氨逃逸濃度,該款脫硝氨逃逸監(jiān)測產(chǎn)品是大方科技近十年氨逃逸監(jiān)測的經(jīng)典款,擁有上千套成功應(yīng)用案例。該產(chǎn)品采用傳統(tǒng)抽取式技術(shù)路線結(jié)合大方科技的多次反射技術(shù),具有可靠性高、安裝維護(hù)方便,測量精度高等特點(diǎn)。

二、測量原理

      系統(tǒng)采用可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜(TDLAS)技術(shù)進(jìn)行NH3的測量,以可調(diào)諧激光器作為光源,發(fā)射出特定波長激光束,穿過待測氣體,通過分析被測氣體中NH3分子吸收導(dǎo)致的激光光強(qiáng)衰減,根據(jù)朗伯比爾定律,氣體濃度與其吸收光強(qiáng)成比例關(guān)系,從而實(shí)現(xiàn)高靈敏快速精確監(jiān)測待測氣體中NH3濃度。因?yàn)榧す庾V寬特別窄(小于0.0001nm),且只發(fā)出待測氣體吸收的特定波長,使得測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾,相比其它復(fù)合光源而言,具有的測量精度。

   朗伯比爾定律:    

                   

   其中光譜吸收系數(shù):

                       

三、測量方案

      根據(jù)脫硝氨逃逸測量點(diǎn)高溫、高濕、高粉塵、震動等工況特點(diǎn)以及測量濃度低、測量精度要求高等要求,產(chǎn)品采用大方科技經(jīng)典的抽取+多反長光程測量技術(shù),煙氣通過采樣系統(tǒng)取樣后經(jīng)伴熱管線進(jìn)入分析單元測量分析。采用抽取方式可以避免煙塵和煙道震動等對測量的影響。煙氣流經(jīng)管路及樣氣室全部采用高溫加熱,保證煙氣取樣過程中無氨氣吸附。分析單元采用多次反射樣氣室,測量光程可達(dá)30米,可大大提高測量精度。 

四、系統(tǒng)特點(diǎn)

1 采用TDLAS技術(shù),不受背景氣體影響

      系統(tǒng)采用可調(diào)諧二極管激光吸收光譜技術(shù)進(jìn)行氣體的測量,由于激光譜寬特別窄(小于0.0001nm),且只發(fā)射待測氣體吸收的特定波長,使測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾。

2 系統(tǒng)無漂移,避免了定期校正需要

      系統(tǒng)采用波長調(diào)制光譜技術(shù),并且進(jìn)行動態(tài)的補(bǔ)償,實(shí)時(shí)鎖住氣體吸收譜線,不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響,不存在漂移現(xiàn)象。

3 全程高溫伴熱,避免氨氣吸附損失

      抽取式測量的分析方式采用全程高溫伴熱,確保無氨氣吸附損失。

4 采用多次反射樣氣室,極大地提高測量精度

      系統(tǒng)采用多次反射測量池技術(shù),光程可達(dá)30米,極大地提高了測量精度。

5 可靠性高,運(yùn)行穩(wěn)定

      分析系統(tǒng)無任何運(yùn)動部件,極大地增強(qiáng)了可靠性。分析儀采兩級菜單操作,人機(jī)交互界面友好,根據(jù)界面提示可不需要說明書就能掌握儀器的基本操作。自動反吹,可拆卸濾芯,維護(hù)方便,運(yùn)行費(fèi)用低。

6 安裝調(diào)試靈活

      分析系統(tǒng)適合安裝在不同工業(yè)環(huán)境下,模塊化設(shè)計(jì),安裝方便,開機(jī)預(yù)熱后便可正常運(yùn)行無需進(jìn)行現(xiàn)場光路調(diào)試。

7 技術(shù),便于維護(hù)光學(xué)器件

      大方科技*的樣氣室設(shè)計(jì),包含維護(hù)窗口,可以在不影響光路的情況下,對污染的光學(xué)器件進(jìn)行清潔,無需重新調(diào)節(jié)光路,讓維護(hù)更加快速方便。

8 儀表自檢及自恢復(fù)功能

      大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復(fù)功能,軟件可以自動探測分析儀的測量異常狀態(tài),可以通過自檢及自恢復(fù),使分析儀重新恢復(fù)測量工作狀態(tài)。

9 自主知識產(chǎn)權(quán)

      大方科技深耕TDLAS技術(shù)領(lǐng)域20年,針對國內(nèi)應(yīng)用現(xiàn)場監(jiān)測難點(diǎn)進(jìn)行專業(yè)和定制化開發(fā),擁有數(shù)十項(xiàng)發(fā)明和軟件著作權(quán),對產(chǎn)品擁有自主知識產(chǎn)權(quán),產(chǎn)品具有高可靠性和適用性。

五、典型應(yīng)用:

      電廠、水泥廠、玻璃廠、陶瓷廠、工業(yè)鍋爐等企業(yè)脫硝氨逃逸監(jiān)測;

      煉焦企業(yè)脫硝氨逃逸監(jiān)測;

      化工廠脫硝氨逃逸監(jiān)測;

      氨法脫硫氨逃逸監(jiān)測。

關(guān)鍵詞:工業(yè)鍋爐
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