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更新時(shí)間：2022-11-26 13:00:04瀏覽次數(shù)：114次
聯(lián)系我時(shí)，請告知來自 環(huán)保在線多點(diǎn)取樣激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)一、項(xiàng)目概述脫硝噴氨過程需要準(zhǔn)確監(jiān)測氨逃逸濃度，針對大型機(jī)組脫硝反應(yīng)器出口煙道較大，為使測量更具代表性，可采用多點(diǎn)取樣方式監(jiān)測氨逃逸
多點(diǎn)取樣激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)
脫硝噴氨過程需要準(zhǔn)確監(jiān)測氨逃逸濃度，針對大型機(jī)組脫硝反應(yīng)器出口煙道較大，為使測量更具代表性，可采用多點(diǎn)取樣方式監(jiān)測氨逃逸。用戶根據(jù)多點(diǎn)氨逃逸的測量數(shù)據(jù)，優(yōu)化、調(diào)整噴氨工藝，提高脫硝效率。多點(diǎn)取樣是指采用多個(gè)取樣系統(tǒng)采樣后混合或者輪流進(jìn)入分析系統(tǒng)測量。
系統(tǒng)采用可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)進(jìn)行NH3的測量，以可調(diào)諧激光器作為光源，發(fā)射出特定波長激光束，穿過待測氣體，通過分析被測氣體中NH3分子吸收導(dǎo)致的激光光強(qiáng)衰減，根據(jù)朗伯比爾定律，氣體濃度與其吸收光強(qiáng)成比例關(guān)系，從而實(shí)現(xiàn)高靈敏快速精確監(jiān)測待測氣體中NH3濃度。因?yàn)榧す庾V寬特別窄（小于0.0001nm），且只發(fā)出待測氣體吸收的特定波長，使得測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾，相比其它復(fù)合光源而言，具有的測量精度。
朗伯比爾定律：
其中光譜吸收系數(shù)：
根據(jù)脫硝氨逃逸測量點(diǎn)高溫、高濕、高粉塵、震動(dòng)等工況特點(diǎn)以及測量濃度低、測量精度要求高等要求，產(chǎn)品采用大方科技經(jīng)典的抽取+多反長光程測量技術(shù)，煙氣通過多個(gè)采樣系統(tǒng)取樣后混合或者輪流進(jìn)入分析單元測量分析。采用抽取方式可以避免煙塵和煙道震動(dòng)等對測量的影響。煙氣流經(jīng)管路及樣氣室全部采用高溫加熱，保證煙氣取樣過程中無氨氣吸附。分析單元采用多次反射樣氣室，測量光程可達(dá)30米，可大大提高測量精度。
四、系統(tǒng)特點(diǎn)
1 采用TDLAS技術(shù)，不受背景氣體影響
系統(tǒng)采用可調(diào)諧二極管激光吸收光譜技術(shù)進(jìn)行氣體的測量，由于激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發(fā)射待測氣體吸收的特定波長，使測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾。
2 系統(tǒng)無漂移，避免了定期校正需要
系統(tǒng)采用波長調(diào)制光譜技術(shù)，并且進(jìn)行動(dòng)態(tài)的補(bǔ)償，實(shí)時(shí)鎖住氣體吸收譜線，不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響，不存在漂移現(xiàn)象。
3 全程高溫伴熱，避免氨氣吸附損失
抽取式測量的分析方式采用全程高溫伴熱，確保無氨氣吸附損失。
4 采用多次反射樣氣室，極大地提高測量精度
系統(tǒng)采用多次反射測量池技術(shù)，光程可達(dá)30米，極大地提高了測量精度。
5 取樣更有代表性
根據(jù)煙道尺寸和用戶需求，選擇多個(gè)取樣點(diǎn)進(jìn)行監(jiān)測，探桿插入深度可根據(jù)煙道寬度進(jìn)行調(diào)整，取樣更有代表性。
6 多點(diǎn)監(jiān)測
可設(shè)定多個(gè)監(jiān)測點(diǎn)，分時(shí)輪流取樣分析或多個(gè)監(jiān)測點(diǎn)同時(shí)混合取樣分析，多個(gè)監(jiān)測點(diǎn)的數(shù)據(jù)可以通過模擬量實(shí)時(shí)傳輸?shù)紻CS。
7 自動(dòng)反吹
具備自動(dòng)反吹控制，反吹間隔和反吹時(shí)長根據(jù)工況設(shè)置，取樣結(jié)束后，對各點(diǎn)探頭依次輪流反吹，有效避免濾芯堵塞。
8 技術(shù)，便于維護(hù)光學(xué)器件
大方科技*的樣氣室設(shè)計(jì)，包含維護(hù)窗口，可以在不影響光路的情況下，對污染的光學(xué)器件進(jìn)行清潔，無需重新調(diào)節(jié)光路，讓維護(hù)更加快速方便。
9 儀表自檢及自恢復(fù)功能
大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復(fù)功能，軟件可以自動(dòng)探測分析儀的測量異常狀態(tài)，可以通過自檢及自恢復(fù)，使分析儀重新恢復(fù)測量工作狀態(tài)。
10 自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)
大方科技深耕TDLAS技術(shù)領(lǐng)域20年，針對國內(nèi)應(yīng)用現(xiàn)場監(jiān)測難點(diǎn)進(jìn)行專業(yè)和定制化開發(fā)，擁有數(shù)十項(xiàng)發(fā)明和軟件著作權(quán)，對產(chǎn)品擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，產(chǎn)品具有高可靠性和適用性。
五、典型應(yīng)用：
大型機(jī)組、自備電廠脫硝氨逃逸監(jiān)測
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