污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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更新時(shí)間:2022-11-26 13:02:53瀏覽次數(shù):110次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線網(wǎng)格取樣激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)一、項(xiàng)目概述脫硝噴氨過(guò)程需要準(zhǔn)確監(jiān)測(cè)氨逃逸濃度,針對(duì)大型機(jī)組脫硝反應(yīng)器出口煙道較大、煙道環(huán)境復(fù)雜,對(duì)煙道監(jiān)測(cè)有更高要求的用戶,可采用網(wǎng)格取樣方式監(jiān)測(cè)氨逃逸
網(wǎng)格取樣激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)
脫硝噴氨過(guò)程需要準(zhǔn)確監(jiān)測(cè)氨逃逸濃度,針對(duì)大型機(jī)組脫硝反應(yīng)器出口煙道較大、煙道環(huán)境復(fù)雜,對(duì)煙道監(jiān)測(cè)有更高要求的用戶,可采用網(wǎng)格取樣方式監(jiān)測(cè)氨逃逸。網(wǎng)格取樣裝置安裝在脫硝反應(yīng)器出口煙道,經(jīng)過(guò)匯流母管與電除塵入口煙道連接,通過(guò)壓差帶動(dòng)煙氣流動(dòng),煙氣在母管內(nèi)進(jìn)行混合后進(jìn)行取樣測(cè)量。
系統(tǒng)采用可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜(TDLAS)技術(shù)進(jìn)行NH3的測(cè)量,以可調(diào)諧激光器作為光源,發(fā)射出特定波長(zhǎng)激光束,穿過(guò)待測(cè)氣體,通過(guò)分析被測(cè)氣體中NH3分子吸收導(dǎo)致的激光光強(qiáng)衰減,根據(jù)朗伯比爾定律,氣體濃度與其吸收光強(qiáng)成比例關(guān)系,從而實(shí)現(xiàn)高靈敏快速精確監(jiān)測(cè)待測(cè)氣體中NH3濃度。因?yàn)榧す庾V寬特別窄(小于0.0001nm),且只發(fā)出待測(cè)氣體吸收的特定波長(zhǎng),使得測(cè)量不受測(cè)量環(huán)境中其它成分的干擾,相比其它復(fù)合光源而言,具有的測(cè)量精度。
朗伯比爾定律:
其中光譜吸收系數(shù):
根據(jù)脫硝氨逃逸測(cè)量點(diǎn)高溫、高濕、高粉塵、震動(dòng)等工況特點(diǎn)以及測(cè)量濃度低、測(cè)量精度要求高等要求,產(chǎn)品采用大方科技經(jīng)典的抽取+多反長(zhǎng)光程測(cè)量技術(shù),煙氣通過(guò)網(wǎng)格采樣系統(tǒng)取樣至母管混合后進(jìn)入分析單元測(cè)量分析。分析單元采用多次反射樣氣室,測(cè)量光程可達(dá)30米,可大大提高測(cè)量精度。
四、系統(tǒng)特點(diǎn)
1 采用TDLAS技術(shù),不受背景氣體影響
系統(tǒng)采用可調(diào)諧二極管激光吸收光譜技術(shù)進(jìn)行氣體的測(cè)量,由于激光譜寬特別窄(小于0.0001nm),且只發(fā)射待測(cè)氣體吸收的特定波長(zhǎng),使測(cè)量不受測(cè)量環(huán)境中其它成分的干擾。
2 系統(tǒng)無(wú)漂移,避免了定期校正需要
系統(tǒng)采用波長(zhǎng)調(diào)制光譜技術(shù),并且進(jìn)行動(dòng)態(tài)的補(bǔ)償,實(shí)時(shí)鎖住氣體吸收譜線,不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響,不存在漂移現(xiàn)象。
3 全程高溫伴熱,避免氨氣吸附損失
抽取式測(cè)量的分析方式采用全程高溫伴熱,確保無(wú)氨氣吸附損失。
4 采用多次反射樣氣室,極大地提高測(cè)量精度
系統(tǒng)采用多次反射測(cè)量池技術(shù),光程可達(dá)30米,極大地提高了測(cè)量精度。
5 取樣更有代表性
根據(jù)煙道尺寸和用戶需求,選擇網(wǎng)格數(shù)量,取樣更有代表性。
6 技術(shù),便于維護(hù)光學(xué)器件
大方科技*的樣氣室設(shè)計(jì),包含維護(hù)窗口,可以在不影響光路的情況下,對(duì)污染的光學(xué)器件進(jìn)行清潔,無(wú)需重新調(diào)節(jié)光路,讓維護(hù)更加快速方便。
7 儀表自檢及自恢復(fù)功能
大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復(fù)功能,軟件可以自動(dòng)探測(cè)分析儀的測(cè)量異常狀態(tài),可以通過(guò)自檢及自恢復(fù),使分析儀重新恢復(fù)測(cè)量工作狀態(tài)。
8 自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)
大方科技深耕TDLAS技術(shù)領(lǐng)域20年,針對(duì)國(guó)內(nèi)應(yīng)用現(xiàn)場(chǎng)監(jiān)測(cè)難點(diǎn)進(jìn)行專業(yè)和定制化開(kāi)發(fā),擁有數(shù)十項(xiàng)發(fā)明和軟件著作權(quán),對(duì)產(chǎn)品擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán),產(chǎn)品具有高可靠性和適用性。
五、典型應(yīng)用:
大型機(jī)組、自備電廠脫硝氨逃逸監(jiān)測(cè)
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