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光學(xué)電子束蒸發(fā)式鍍膜機

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更新時間：2022-07-22 14:09:01瀏覽次數(shù)：743次

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湖南宇晶機器股份有限公司

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產(chǎn)品簡介

總功率：120KW尺寸：W5600×D6300×H3170mm機器重量：15(t)設(shè)備專門用于IT 制造業(yè)結(jié)構(gòu)件真空鍍膜加工，各系統(tǒng)單元和總體構(gòu)成滿足光學(xué)和功能薄膜生產(chǎn)工藝要求，適用AR膜、NCVM顏色膜、金屬裝飾膜、金屬功能膜、AF功能膜等。The equipment is specially used for vacuum coating processing of struc......

詳細介紹

設(shè)備專門用于IT 制造業(yè)結(jié)構(gòu)件真空踱膜加工，各系統(tǒng)單元和總體構(gòu)成滿足光學(xué)和功能薄膜生產(chǎn)工藝要求，適用AR膜、NCVM顏色膜、金屬裝飾膜、金屬功能膜、AF功能膜等。
該渡膜機鍍膜機采用立式箱體，前置室門上裝有觀察窗，箱內(nèi)安裝轉(zhuǎn)架驅(qū)動，爐內(nèi)安裝烘烤系統(tǒng)，后置排氣法蘭連接高真空泵;

1) 前級真空：由旋片泵、羅茨泵構(gòu)成;

2) 高真空：擴散泵、超低溫冷凝水捕集泵(Polycold) ,真空室和擴散泵冷阱;

3) 抽氣系統(tǒng)：由各級泵、管道和閥門，在系統(tǒng)的控制下完成啟動、粗抽精抽、待命和維持流程。

項目	規(guī)格
成膜系統(tǒng)	1）電子槍，10KW,電子束偏轉(zhuǎn)角270度; 2）終端霍爾型離子源，3KW。 3）雙舟阻抗式蒸發(fā)源（共5KW），用于鍍制 AF膜層。
工作模式	離子清洗、電子束蒸發(fā)，石英晶體薄膜厚度控制器監(jiān)控膜厚并自動判停。
工藝流程	裝夾－抽真空－離子清洗－電子槍蒸踱－阻抗式蒸發(fā)AF- 進氣、出爐。
功率	總功率 120KW，平均功率60KW
設(shè)備外尺寸及總重	1）主框架及控制柜，不開門 W5600×D6300×H3170，開門 W5600×D8500×H3170； 2）粗抽泵組及粗抽管占地：W2000×D1500； 3）主框架外部必要的操作和維護維護空間：水平方向外延伸 800mm;垂直向上延伸 400mm。 4）總重：15噸