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更新時(shí)間：2023-01-23 09:46:53瀏覽次數(shù)：368次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線圖片簡(jiǎn)介橢偏儀——SE200BA-M300橢偏儀是一種利用光的偏振態(tài)變化來(lái)進(jìn)行薄膜性質(zhì)表征的儀器，主要用來(lái)測(cè)量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)
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簡(jiǎn)介
橢偏儀——SE200BA-M300
橢偏儀是一種利用光的偏振態(tài)變化來(lái)進(jìn)行薄膜性質(zhì)表征的儀器，主要用來(lái)測(cè)量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)。橢偏儀的主要原理是將自然光（紫外光、可見光以及紅外光）變成偏振光后通過(guò)一定角度入射到樣品上，偏振光進(jìn)入樣品介質(zhì)后會(huì)反射回到橢偏儀檢偏器內(nèi)，由于樣品介質(zhì)會(huì)對(duì)偏振光的偏振態(tài)發(fā)生改變，而這種改變會(huì)被橢偏儀測(cè)量，橢偏儀就是利用這個(gè)介質(zhì)對(duì)偏振光性質(zhì)改變的原理來(lái)表征介質(zhì)的性質(zhì)的。
SE200BA-M300型號(hào)實(shí)現(xiàn)250nm到1000 nm超長(zhǎng)波段的探測(cè)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)材料紫外、可見和紅外波段的全覆蓋測(cè)量研究，同時(shí)可搭配自動(dòng)平臺(tái)掃描、自動(dòng)變角、微光斑探測(cè)以及平臺(tái)加熱等功能滿足不同應(yīng)用需求。
系統(tǒng)配置:
型號(hào)：SE200BM-M300
探測(cè)器：陣列探測(cè)器
光源：高功率的DUV-Vis-NIR復(fù)合光源
測(cè)量角度變化：手動(dòng)調(diào)節(jié)
平臺(tái)：ρ-θ配置的自動(dòng)成像
軟件：TFProbe 3.2版本的軟件
計(jì)算機(jī)：Inter雙核處理器、19"寬屏LCD顯示器
電源：110–240V AC/50-60Hz，6A
保修：一年的整機(jī)及零備件保修
波長(zhǎng)范圍：250nm到1000 nm
波長(zhǎng)分辨率: 1nm
光斑尺寸：1mm至5mm可變
入射角范圍：0到90度
入射角變化分辨率：5度間隔
樣品尺寸：zui大直徑為300mm
基板尺寸：zui多可至20毫米厚
測(cè)量厚度范圍*：0nm?10μm
測(cè)量時(shí)間：約1秒/位置點(diǎn)
精度*：優(yōu)于0.25％
重復(fù)性誤差*：小于1 ?
規(guī)格參數(shù)
波長(zhǎng)范圍：250nm 到 1000 nm
波長(zhǎng)分辨率: 1nm
光斑尺寸：1mm 至 5mm 可變
入射角范圍：10 到 90 度
入射角變化分辨率：0.01 度
樣品尺寸：zui大直徑為 300mm
基板尺寸：zui多可至 20 毫米厚
選項(xiàng)配置:
用于反射的光度測(cè)量或透射測(cè)量；
用于測(cè)量小區(qū)域的微小光斑；
用于改變?nèi)肷浣嵌鹊淖詣?dòng)量角器；
X－Y成像平臺(tái)(X-Y模式，取代ρ-θ模式)；
加熱/致冷平臺(tái)；
樣品垂直安裝角度計(jì)；
波長(zhǎng)可擴(kuò)展到遠(yuǎn)DUV或IR范圍；
掃描單色儀的配置；
聯(lián)合MSP的數(shù)字成像功能，可用于對(duì)樣品的圖像進(jìn)行測(cè)量等。
功能圖解
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光譜反射分析系列：SR100、SR300、SR500等
微光斑分析系列：MSP100、MSP300、MSP500等
橢偏儀系列：SE200BA、SE200BM等
自動(dòng)掃描測(cè)試平臺(tái)：M100、M150、M200等
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