錦州市潤(rùn)佳真空設(shè)備科技有限公司
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詳細(xì)摘要： 真空鍍膜技術(shù)基片升溫低，沉積速率高為主要特點(diǎn)，該沉積工藝在電導(dǎo)膜、光學(xué)膜、保護(hù)膜、裝飾膜等諸多方面都有廣泛應(yīng)用
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-03-03 在線留言
詳細(xì)摘要： FTZKDM-998真空鍍膜機(jī)參數(shù)真空鍍膜技術(shù)基片升溫低，沉積速率高為主要特點(diǎn)，該沉積工藝在電導(dǎo)膜、光學(xué)膜、保護(hù)膜、裝飾膜等諸多方面都有廣泛應(yīng)用
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-03-02 在線留言
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