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全自動刻蝕機-AE12P

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更新時間:2022-11-28 16:03:16瀏覽次數(shù):287次

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產(chǎn)品簡介

單片濕法刻蝕設備,能適應HF,HCL,H3PO4等多種刻蝕液,可刻蝕金屬有Gr、Ni、Ti、Cu、Au等

詳細介紹

單片濕法刻蝕設備,能適應HF,HCL,H3PO4等多種刻蝕液,可刻蝕金屬有Gr、Ni、Ti、Cu、Au等。本設備工作過程中由擺臂系統(tǒng)旋轉(zhuǎn)交替噴液,多層Cup結(jié)構(gòu)可實現(xiàn)不同刻蝕液的分類排放與回收。專業(yè)的工藝腔體結(jié)構(gòu),在刻蝕電鍍或濺射形成的金屬膜的前提下,既能保證刻蝕的均勻性、刻蝕率,還可以保證各種化學品的使用安全性。本設備能滿足縱向刻蝕深度尺寸較大,橫向刻蝕深度精度高的工藝要求,在刻蝕工藝完成后,晶圓刻蝕溝槽和深孔等圖形側(cè)壁陡直規(guī)整,均勻性可達5%以內(nèi)。 晶片尺寸
2-12寸


主要技術參數(shù)
1、上下料方式: 高效機械手自動傳送
2、離心機轉(zhuǎn)速
額定轉(zhuǎn)速: 2000 rpm
最小調(diào)整量: 1rpm
轉(zhuǎn)速精度: ±3rpm(50 rpm~2000 rpm)
3、夾持方式: 真空吸附
或多點支撐、四角夾緊、機械安全限位的方式(可選)
4、藥液回收循環(huán)使用功能。
5、刻蝕液加熱:在線加熱器,MAX: 50℃±2℃
6、背噴功能:氮氣,1路
7、刻蝕液過濾器:0.2um
8、滅火系統(tǒng):二氧化碳滅火系統(tǒng)

應用行業(yè)
廣泛應用于LED、分立器件、*封裝、科研等領域。

關鍵詞:離心機 加熱器
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